[发明专利]热辅助数据记录方法和记录装置无效

专利信息
申请号: 01801383.X 申请日: 2001-05-10
公开(公告)号: CN1381042A 公开(公告)日: 2002-11-20
发明(设计)人: H·W·范克斯特伦 申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: G11B5/00 分类号: G11B5/00;G11B11/105
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 辅助 数据 记录 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种在磁性介质(69)上的磁轨中以比特(43)的形式记录数据的方法,该记录磁轨具有磁轨宽度(44)并且磁轨中记录的比特具有比特长度(45),使用热辅助记录在升高的温度下在介质上用写磁头(76)和光头(71-75)来记录数据,写磁头(76)用于产生磁场,光头(71-75)用于在记录期间由来自光头的光对介质局部加热,可暂时减小介质的矫磁力,以便于记录,其特征在于,所述的磁轨宽度由磁场的剖面限定,并且所述的比特长度由磁性介质中由激光引起的热剖面限定。

2.按照权利要求1的方法,其特征在于,光是脉冲的。

3.按照权利要求1的方法,其特征在于,磁场。

4.按照权利要求1的方法,其特征在于,数据的读出是通过使用磁阻材料(MR)传感器检测介质的漏磁场变化来执行的。

5.按照权利要求1或2的方法,其特征在于,数据的读出是依靠光学传感器通过介质的磁光(MO)效应来执行的。

6.一种沿磁性记录介质(69)上至少一个磁轨以比特(43)的形式记录数据的记录装置,该磁轨具有磁轨方向,该装置包括用于产生具有记录位置上的剖面磁场的写磁头(76),用于在记录位置上形成光点从而在介质中形成热剖面的光头(71-75),和用于移动在磁轨方向上相对于介质的记录位置的激励器(192),其特征在于,磁场的剖面限定垂直于磁轨方向的方向上的记录比特的宽度,并且热剖面限定磁轨方向上记录比特的长度。

7.按照权利要求6的记录装置,其特征在于,写磁头(76)和光头(71-75)排列在磁性介质(69)的同一侧。

8.按照权利要求6的记录装置,其特征在于,磁记录介质是磁盘介质(69),并且该装置包括具有放置在滑动器第一侧的介质相对表面(82,83)的完整的浮动滑动器(67),所述的滑动器包括至少一个磁头,该磁头具有限定磁轨宽度的第一磁极(78,88),第一磁极面对滑动器的介质相对侧,滑动器还具有包含介质相对表面上的出射窗(73′)的光头,并用于向出射窗外投射光束,以在磁记录介质上形成光点,出射窗与磁轨方向上的磁极相邻。

9.按照权利要求8的记录装置,其特征在于,磁头包括至少一个返回磁极(122),返回磁极和第一磁极(121)定向在垂直于磁轨方向的方向上。

10.按照权利要求6的记录装置,其特征在于,它包括屏蔽型薄膜磁阻材料的读出磁头(117)。

11.按照权利要求6的记录装置,其特征在于,光头包括用于聚焦光束到磁记录介质上的光点上的聚焦装置(113,114)。

12.按照权利要求6的记录装置,其特征在于,光头包括用于校准光点相对于记录磁头的磁极的位置的校准装置(74)。

13.按照权利要求12的记录装置,其特征在于,校准装置包括反射镜(74)和反射镜支撑装置,反射镜为了校准的目的至少暂时可相对于反射镜支撑装置移动。

14.用于如权利要求6所限定的记录装置的滑动器。

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