[发明专利]抛光剂及其制造方法以及抛光方法有效
| 申请号： | 01801018.0 | 申请日： | 2001-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1366549A | 公开（公告）日： | 2002-08-28 |
| 发明（设计）人： | 谷泰弘;卢毅申 | 申请（专利权）人： | 日本微涂料株式会社;谷泰弘 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制造 方法 以及 | ||
1.一种抛光剂，它是抛光被抛光体表面的抛光剂，其特征是：由基体粒子及保持于其表面上的超微细磨料构成。
2.按照权利要求1所记载的抛光剂，其特征是：在抛光过程中，上述超微细磨料被保持在上述基体粒子上。
3.按照权利要求1所记载的抛光剂，其特征是：上述超微细粒子相对于上述基体粒子的粒径比为1/500～1/5。
4.一种抛光剂的制造方法，它是制造权利要求1所记载的抛光剂的方法，其特征是：该方法由向分散上述超微细磨料的抛光液中添加上述基体粒子并搅拌的工序构成。
5.一种抛光方法，它是使用权利要求1所记载的抛光剂，利用抛光装置进行抛光的方法，其特征是：它由以下工序构成，即在上述被抛光体和上述抛光装置之间以所规定的量供给上述抛光剂的工序和一边使上述抛光装置与上述被抛光体接触一边使其相对运动的工序。
6.按照权利要求5所记载的抛光方法，其特征是：作为上述抛光装置，使用平滑而平面性良好的带。
7.按照权利要求6所记载的抛光方法，其特征是：一边进行前述接触一边使其相对运动的工序由一边以所定的旋转速度使上述带旋转，一边抛光上述被抛光体的工序构成。
8.按照权利要求5所记载的抛光方法，其特征是：作为上述抛光装置，使用承台。
9.按照权利要求8所记载的抛光方法，其特征是：一边进行上述接触一边使其相对运动的工序由一边以所定的旋转速度使上述承台旋转，一边抛光加工上述被抛光体的工序构成。
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