[实用新型]一种工业硅炉用把持器和铜瓦装置无效
申请号: | 01240427.6 | 申请日: | 2001-05-21 |
公开(公告)号: | CN2483934Y | 公开(公告)日: | 2002-03-27 |
发明(设计)人: | 俞景禄;王忠涛;池延斌;巨建涛 | 申请(专利权)人: | 西安建筑科技大学 |
主分类号: | H05B7/10 | 分类号: | H05B7/10 |
代理公司: | 西安西达专利代理有限责任公司 | 代理人: | 郭秋梅 |
地址: | 710055*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工业 硅炉用 把持 装置 | ||
本实用新型涉及工业硅炉所用设备,特别涉及工业硅炉用把持器和铜瓦装置。
迄今为止,工业硅炉都套用自培电极铁合金炉的模式,设置把持器和铜瓦长而笨重,其下端到高温料面的距离只有200~300mm。该装置的主要缺点是:水圈与铜瓦长期工作在高温区,易损坏,且维修条件恶劣,影响炉子作业率。铜瓦对电极的接触压力和接触面积并无改善,且耗铜量大,铜件的功率损失明显增加。
本实用新型的目的在于淘汰传统工业硅炉的老式装置,提供一种氧化减小,节能、节水、节铜材,损失率大大降低的工业硅炉用的新型把持器和铜瓦装置。
本实用新型的技术解决方案是这样实现的:
在电极(1)上设有烟罩(6),在烟罩(6)的上面设有铜瓦(2)、导电铜管(3)、水圈(5),在水圈(5)上设有隔磁板(4)。该隔磁板(4)为两块,且对称设置在水圈(5)轴向的两侧,隔磁板(4)可选用奥氏体不锈钢。
铜瓦(2)下沿距料面(7)的高度H为2300~2500mm。本实用新型电极和铜瓦的接触电流密度控制在6~8A/cm2之间,使铜瓦(2)与电极(1)的接触面积为原有铜瓦的一半左右。
本实用新型与现有技术相比,具有以下优点:
本实用新型将电极把持器及铜瓦改型变小并进行有效隔磁处理,将整个装置放置在矮烟罩之上,使整体远离料面高温区,氧化减小,损失率大大降低,安装维修方便,节能、节水、节铜材,炉子作业率提高。
下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明:
图1是本实用新型结构示意图。
实施例:
参见图1。本实用新型主要由电极1、铜瓦2、导电铜管3、水圈5、矮烟罩6构成。铜瓦2、导电铜管3、水圈5均设置在矮烟罩6的上面。铜瓦2被水圈5紧固在电极1上。三根导电铜管3分别与三块铜瓦2连接。在水圈5上还设有隔磁板4,该隔磁板4为两块,且对称设置在水圈5轴向的两侧,隔磁板4可选用奥氏体不锈钢。
正常生产情况下,铜瓦2下沿距料面7的高度H为2300~2500mm。传统模式均按电极和铜瓦的接触电流密度不大于3.5A/cm2选取,本实用新型的电极和铜瓦的接触电流密度可控制在6~8A/cm2之间,这样一来可使铜瓦2与电极的接触面积比原有的铜瓦减少一半左右,故铜材明显节省。
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