[发明专利]利用一和二次本征特征的照明和视角不变的面容描绘方法

权利要求书

1.一种提取用于照明不变的面容描绘的特征的方法，包括步骤：

取得一个面容图像的调节的二次本征特征；

量化所述调节的二次本征特征；和

从所述量化的二次本征特征选择特征以构造描绘面容的面容描绘信息。

2.一种提取用于照明不变的面容描绘的特征的方法，包括步骤：

取得一个面容图像的调节的二次本征特征；

量化所述调节的二次本征特征；

从所述量化的二次本征特征选择特征以构造描绘面容的面容描绘信息；和

对照明不变的面容描绘信息中所述选择的本征特征编码。

3.一种提取用于视角不变的面容描绘的特征的方法，包括步骤：

取得一个面容图像的调节的一次本征特征；

取得一个面容图像的调节的二次本征特征；

量化所述的调节的一次本征特征；

量化所述的调节的二次本征特征；和

从所述量化的一次和二次本征特征选择特征以构造描绘面容的面容描绘信息。

4.一种提取用于视角不变的面容描绘的特征的方法，包括步骤：

取得调节的一次本征特征；

取得调节的二次本征特征；

量化所述调节的一次本征特征；

量化所述调节的二次本征特征；

从所述量化的一次和二次本征特征选择特征以构造描绘面容的面容描绘信息；和

对视角不变的面容描绘信息中的所述选择的本征特征编码。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于取得一个面容图像的调节二次本征特征的步骤包括步骤：

取得面容图像和一个调节的二次本征面容矩阵的点积。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于取得一个面容图像的调节一次本征特征的步骤包括步骤：

取得面容图像和一个调节的一次本征面容矩阵的点积。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于计算所述调节的一次本征面容矩阵的步骤包括步骤：

计算一次本征面容矩阵；和

调节所述一次本征面容矩阵。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于计算所述调节的二次本征面容矩阵的步骤包括步骤：

计算二次本征面容矩阵；和

调节所述二次本征面容矩阵。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于调节所述一次本征面容的步骤包括步骤：

取得训练面容图像的一次本征特征；

将一次本征面容排列为原始图像的二维数组；

取得所述二维数组的镜像本征面容；

给所述镜像本征面容图像加权；

将所述加权本征面容图像与所述一次本征面容相加；

重新排列一次本征面容以获得一维调节一次本征面容；

使调节的一次本征面容规格化；

取得用于距离计算的调节的一次本征特征的加权数；

将用于距离计算的一次本征特征的加权数与调节的一次本征面容矩阵相乘；和

量化一次本征面容矩阵。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于计算二次本征面容的步骤包括步骤：

计算一次本征面容矩阵；

从训练面容图像取得一次本征特征；

计算所述一次本征面容矩阵的伪逆矩阵；

通过将所述一次本征特征与一次本征面容矩阵的所述伪逆矩阵相乘计算一次重构面容图像；

通过从原始图像减去一次重构面容图像取得二次剩余图像；和

通过计算所述二次剩余图像的本征向量取得二次本征面容。

11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于调节二次本征面容的步骤包括步骤：

通过计算面容图像和二次本征面容的点积取得训练图像的二次本征特征；

将二次本征面容再成形到原始图像形状和取得左右镜像本征面容图像；

给镜像本征面容图像加权并且把它们加到对应原始图像成形的二次本征面容图像；

重新排列原始图像成形的二次本征面容，以获得一维调节的二次本征面容；

使调节的二次本征面容规格化；

取得用于距离计算的二次本征特征的加权数；

将用于距离计算的二次本征特征的加权数与调节的二次本征面容矩阵相乘；和

量化二次本征面容矩阵。