[发明专利]光热敏成像材料用的含水、可热漂白的组合物无效
| 申请号: | 01142746.9 | 申请日: | 2001-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN1357796A | 公开(公告)日: | 2002-07-10 |
| 发明(设计)人: | M·E·欧文;R·戈斯瓦米;K·N·基尔明斯特 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号: | G03C1/815 | 分类号: | G03C1/815 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,邰红 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 热敏 成像 材料 含水 漂白 组合 | ||
1.水分散液型组合物,包含至少一种防光晕或滤光染料和至少一种六芳基联咪唑化合物,该水分散液包括水相和分散有机相,水相包含可溶性亲水聚合物或分散性疏水聚合物,分散有机相包含其中含有所说的六芳基联咪唑化合物的固态或液态粒子,当分散液涂布、干燥并加热至至少90℃、至少0.5秒时,所说的粒子中的六芳基联咪唑化合物能漂白所说的染料。
2.权利要求1的组合物,其中所说的粒子呈水包油乳液形式。
3.权利要求1的组合物,其中所说的粒子呈固体物料形式,该固体中六芳基联咪唑化合物是唯一的或主要的组分,视需要选用聚合物粘合剂。
4.权利要求1的组合物,其中染料选自氧杂菁、甲、方烯鎓染料或它们的结合物。
5.光热敏成像材料,包括支持体,至少一个接受影像的光热敏成像层和至少一个防光晕层或滤光层,其中防光晕或滤光层包含可加热漂白的组合物,该组合物包括至少一种防光晕或滤光染料和至少一种分散于层内、呈液态或固态粒子形式的六芳基联咪唑化合物相结合,所说的层还包含聚合物基体,基体含有亲水聚合物或水分散性聚合物作为唯一或主要的粘合剂材料。
6.权利要求5的照相材料,其中可溶性亲水聚合物选自明胶、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮和聚酰胺,或它们的衍生物。
7.权利要求6的照相材料,其中亲水聚合物是氧化了的明胶。
8.权利要求5的光热敏成像材料,其中染料选自氧杂菁、甲、方烯鎓染料或它们的结合物。
9.按权利要求5的光热敏成像材料,其中六芳基联咪唑包括各自分别以下列结构表示的两种化合物的氧化三芳基咪唑二聚体,式中R1、R2和R3是独立的取代基,选自氢,卤素、氰基,烷氧羰基、硝基、1~10碳取代或未取代的烷基,1~10碳取代或未取代的烷氧基,5~10碳的芳基或取代芳基,6~11碳的取代或未取代的苄基,而其中Ar1和Ar2各自是取代或未取代的碳环或杂环芳基。
10.按权利要求9的光热敏成像材料,式中R1、R2和R3各自是氢,卤素、1~10碳的烷基或取代烷基,5~10碳的芳基或取代芳基,7~12碳的取代或未取代的苄基。
11.权利要求9的光热敏成像材料,其中至少一种六芳基联咪唑以结构I表示:式中R1是氢或卤素,R2和R3各自是氢,卤素、1~10碳的烷基或取代烷基,5~10碳的芳基或取代芳基,取代或未取代的苄基;R4、R5和R6各自是氢,1~6碳烷基或取代烷基。
12.权利要求9的光热敏成像材料,式中R1、R2和R3是氢,R4是1~6碳烷基或取代烷基,R5和R6是氢。
13.权利要求7的光热敏成像材料,其中至少一种六芳基联咪唑以下列结构表示:
14.权利要求1的光热敏成像材料,其中当涂层加热时,至少一种防光晕或滤光染料可与六芳基联咪唑反应,其中在加热至至少90℃ 2分钟内,所说的防光晕或滤光层即基本上变为无色。
15.光热敏成像材料中,包括(a)支持体,其上具有(b)至少一个含感光卤化银的光热敏层,及(c)光热敏成像层下面的防光晕层,该防光晕层包括(i)至少一种六芳基联咪唑化合物,呈固体粒子分散体形式,平均粒度为0.01~5μm,及(ii)至少一种防光晕染料,其中所说的防光晕染料在加热至至少90℃下5分钟内至少50%变为无色。
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