[发明专利]光记录介质,光记录介质制造设备和制造方法

权利要求书

1.一种能够光记录记录信息的光记录介质，其包括：

第一区域，由其上被记录记录信息的连续的凹槽轨道形成；和

第二区域，由其上相应于预定数据的不连续的凸起的凹坑行形成，

其中凸起的预制坑行防止再现写在第二区域上的数据；和

第二区域的半径推挽信号的电平不小于第一区域的半径推挽信号的电平的80％。

2.根据权利要求1的光记录介质，其中凹槽轨道和凸起的凹坑行实际上满足下列数学方程式：

占空＝0.04(Ed-λ/8n)²+(-0.07Gd²+6Gd-35.6)

其中占空[％]是凸起凹坑行的平均占空，Ed[nm]是凸起凹坑行的深度，λ[nm]是光束的波长，和n是光记录介质的基底的折射率，和Gd[nm]是凹槽轨道的深度。

3.一种用于制造光盘母盘的光盘母盘制造设备，该光盘母盘是用于制造能够光记录记录信息的光记录介质，光记录介质包括由其上被记录记录信息的连续的凹槽轨道形成的第一区域和由其上相应于预定数据的不连续的凸起的凹坑行形成的第二区域，其中凸起的预制坑行防止再现写在第二区域上的数据和第二区域的半径推挽信号的电平不小于约80％的第一区域的半径推挽信号的电平，

该设备包括：

光束产生器，用来相应于光记录介质的第一和第二区域在光盘母盘上形成多个区域；和

用来控制光束产生器的控制器。

4.根据权利要求3的光盘母盘制造设备，其中光记录介质的凹槽轨道和凸起的凹坑行实际上满足下列数学方程式：

占空＝0.04(Ed-λ/8n)²+(-0.07Gd²+6Gd-35.6)

其中占空[％]是凸起凹坑行的平均占空，Ed[nm]是凸起凹坑行的深度，λ[nm]是光束的波长，和n是光记录介质的基底的折射率，和Gd[nm]是凹槽轨道的深度。

5.一种用于制造光盘母盘的光盘母盘制造方法，该光盘母盘是用于制造能够光记录记录信息的光记录介质，该光记录介质包括由其上被记录记录信息的连续的凹槽轨道形成的第一区域与由其上相应于预定数据的不连续的凸起的凹坑行形成的第二区域，其中凸起的预制坑行防止再现写在第二区域上的数据和第二区域的半径推挽信号的电平不小于约80％的第一区域的半径推挽信号的电平，

该方法包括步骤：相应于光记录介质的第一和第二区域在光盘母盘上形成多个区域。

6.根据权利要求5的光盘母盘制造方法，其中光记录介质的凹槽轨道和凸起的凹坑行实际上满足下列数学方程式：

占空＝0.04(Ed-λ/8n)²+(-0.07Gd²+6Gd-35.6)

其中占空[％]是凸起凹坑行的平均占空，Ed[nm]是凸起凹坑行的深度，λ[nm]是光束的波长，和n是光记录介质的基底的折射率，和Gd[nm]是凹槽轨道的深度。