[发明专利]磁记录介质用玻璃基体的制造方法

权利要求书

1.磁记录介质用玻璃基体的一种制备方法，该方法包括如下步骤：在抛光玻璃基体所用的双侧抛光装置的上和下两划线台之间夹心一块供校正的磨耗板，同时，使该上和下划线台与该抛光装置适配，在提供冷水的同时以相反方向旋转该上和下划线台，以此将这些划线台的表面抛光到台表面的平整度不超过30μm的级别；然后将磨耗布分别粘在该上下划线台上；此后，重复地抛光该磁记录介质用玻璃基体的表面。

2.磁记录介质用玻璃基体的一种制备方法，该方法包括如下步骤：在抛光玻璃基体所用的双侧抛光装置的上和下两划线台之间夹有一块供校正的磨耗板，同时，使该上和下划线台与该抛光装置适配，在提供冷水的同时以相反方向旋转该上和下划线台，以此将这些划线台的表面抛光到台表面的平整度不超过30μm的级别；然后将磨耗布分别粘在该上下划线台上，在上和下磨耗布之间夹有一块供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使这些磨耗布与该上和下划线台一起旋转，以此改进这些磨耗布外表面的平整度精度；此后，重复地抛光该磁记录介质用玻璃基体的表面。

3.磁记录介质用玻璃基体的一种制备方法，该方法包括如下步骤：在抛光玻璃基体所用的双侧抛光装置的上和下两划线台之间夹心一块供校正的磨耗板，同时，使该上和下划线台与该抛光装置适配，在提供冷水的同时以相反方向旋转该上和下划线台，以此将这些划线台的表面抛光到台表面的平整度不超过30μm的级别；然后将磨耗布分别粘在该上下划线台上，在上和下磨耗布之间夹有一块供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使这些磨耗布与该上和下划线台一起旋转，以此改进这些磨耗布外表面的平整度精度；然后，不使用任何校正磨耗板，通过使这些磨耗布与该上和下划线台一起旋转，让上和下磨耗布在一起摩擦，以此进一步改进该磨耗布外表面的平整度精度；此后，重复地抛光该磁记录介质用玻璃基体的表面。

4.如权利要求1、2或3所提出的磁记录介质用玻璃基体的制造方法，其中按照如前述权利要求1、2或3所提出的方法，重复地进行玻璃基体的抛光，接着除去磨耗布，然后，从开始重复如权利要求1、2或3所提出的制造方法。

5.如权利要求1至3任何一项所述的方法，其中磨耗板是金属粘合的砂轮或树脂粘合的砂轮，其含金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅、氧化锆和氧化铝的磨料颗粒。

6.如权利要求4所述的方法，其中磨耗板是金属粘合的砂轮或树脂粘合的砂轮，其含金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅、氧化锆和氧化铝的磨料颗粒。