[发明专利]平版印刷版用铝合金板无效
申请号: | 01122859.8 | 申请日: | 2001-07-11 |
公开(公告)号: | CN1333136A | 公开(公告)日: | 2002-01-30 |
发明(设计)人: | 山口惠太郎 | 申请(专利权)人: | 三菱铝株式会社 |
主分类号: | B41N1/08 | 分类号: | B41N1/08;C22C21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏金玺,邰红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平版印刷 铝合金 | ||
技术领域
本发明涉及预先形成感光层并进行显影之后,原封不动直接使用的或进行感光层的晒相处理之后使用的PS版中使用的平版印刷版用铝合金板。
背景技术
在平版印刷中,预先形成感光层并进行显影之后,原封不动直接使用的或进行感光层的晒相处理之后使用的PS版被广泛地使用着,该PS版具有涂覆感光剂的粗面。该印刷版,作为其构成材料广泛使用的是电解蚀刻性优良的1050系的铝合金。
该PS版,是使用上述铝合金并经过规定的制造工序制造的,而且在上述感光剂涂覆之前进行表面处理。该表面处理,是通过电解蚀刻对印刷版表面进行粗面化处理之后,进行阳极氧化皮膜处理,并且在粗面化处理之前,还要进行作为脱脂等目的的苛性处理等的洗净处理。
上述粗面化处理的进行是为了在感光层的形成中使感光剂紧密粘附固定在印刷版上,因为该紧密粘附性直接影响作为印刷版的性能。
然而,在以往的粗面化处理中,粗面化表面上有未蚀刻部分,或者通过粗面化形成的蚀坑的分布不均匀的情况也不少,这些对于作为印刷版的性能都会产生很坏的影响,因此要求改善该粗面状态。
以往,从上述观点出发对材料面的改善进行过尝试,作为这一方法曾提出在材料中添加特殊元素的方法。例如,在特开平11-115333号中提出,通过添加规定量的Ni来促进蚀坑的形成以提高蚀刻性的方法;特开昭58-210144号中提出添加Sn、In、Ga形成微细蚀坑来提高蚀刻性的方法。
发明要解决的课题
然而,即使添加上述那些特殊的元素也不能达到充分满足上述的要求,另外,由于特殊元素的添加而招至材料费用的成本提高,或者带来成为回收利用的障碍之类的问题。
另外,还有一些提案是着眼于金属间化合物大小、密度,并通过控制这些在不添加特殊元素的情况下提高蚀刻性的方法(特开平11-151870号等)。在此方法中,该金属间化合物成为蚀刻的起点并均匀地形成微细的蚀坑。但是,即使采用该方法也不能充分地提高蚀刻性,不能使上述要求达到满足。
从本发明者的研究可知,即使通过控制上述的金属化合物的大小、密度也得不到充分的蚀刻性的原因,是因为该金属间化合物的化学溶解性比预料的大,在电解液中溶解消失所以不能充分起到作为蚀刻蚀坑起点的功能。而且,进一步的研究结果表明,对于由稳定相构成的上述金属间化合物,适度地分散一些准稳定相的AlFe系金属间化合物粒子时,可大幅度提高蚀刻性,并能充分适应上述的要求,于是达到了本发明的完成。
本发明正是基于上述发现完成的,其目的在于提供一种在粗面化处理时,不需要添加特殊的元素、未蚀刻部分少、并可得到形成均匀蚀坑的粗面,因此能够得到性能优异的PS版的平版印刷版用铝合金板。为解决课题的手段
即,为解决上述课题本发明的平版印刷版用铝合金板中的第1项发明的特征在于,该铝合金板按质量比计含有Fe:0.1-0.6%、Si:0.01-0.2%、Cu:5-150ppm,余部由Al和不可避免的杂质构成,同时表层部分由分散有准稳定相的AlFe系金属间化合物粒子的准稳定相分散层构成。
第2项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1项发明中,在上述分散层中,在面方向,准稳定相的AlFe系金属间化合物粒子,相对于稳定项的AlFe系金属间化合物粒子,以个数比计含有5/100以上。
第3项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1或第2项发明中,在上述分散层中,在面方向,金属间化合物粒子中,满足下述A式的粒子(个数a),和满足下述B式的粒子(个数b),具有满足下述c式的关系。
Al量/Fe量≤1.6……A式
Al量/Fe量>1.6……B式
b/a≥0.05……C式
第4项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1-第3项发明中的任一项发明中,上述分散层具有离表面2μm-50μm的深度。
第5项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1-第4项发明中的任一项发明中,在上述分散层中,当量圆粒子直径为0.1μm以上的金属间化合物的当量圆平均粒子直径在0.2-2.0μm的范围内。
第6项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1-第5项发明中的任一项发明中,在上述分散层中,在面方向,金属间化合物以3000-30000个/mm2的密度分散着。
第7项发明的平版印刷版用铝合金板的特征在于,在第1-第6项发明中的任一项发明中,上述铜含量按质量比计为10ppm-40ppm。
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