[发明专利]电化学装置用的电解质有效
| 申请号: | 01122808.3 | 申请日: | 2001-04-30 | 
| 公开(公告)号: | CN1324124A | 公开(公告)日: | 2001-11-28 | 
| 发明(设计)人: | 辻冈章一;高瀬浩成;高桥干弘;杉本博美 | 申请(专利权)人: | 森陶硝子株式会社 | 
| 主分类号: | H01M10/40 | 分类号: | H01M10/40;H01G9/022;H01B1/12 | 
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 段承恩 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电化学 装置 电解质 | ||
1、—种用于电化学装置的电解质,所述电解质包括:
第—化合物,它是一种由通式(1)表示的离子金属配合物;以及
至少一种化合物,选自分别由通式(2)-(4)表示的第二至第四化合物,分别由通式Aa+(PF6-)a、Aa+(ClO4-)a、Aa+(BF4-)a、Aa+(AsF6-)a和Aa+(SbF6-)a表示的第五至第九化合物,以及分别由通式(5)~(7)表示的第十至第十二化合物,  (1)
其中,M是过渡金属,选自周期表第3~11族的元素,或是选自周期表第12~15族的元素,
Aa+表示金属离子、鎓离子或氢离子;
a表示1~3的数值;b表示1~3的数值;p是b/a;m表示1~4的数值;n表示0~8的数值;q是0或1;
X1表示O、S、NR5或NR5R6;
每个R1和R2独立地代表H、卤素、C1~C10的烷基或C1~C10的卤代烷基;
R3代表C1~C10的亚烷基,C1~C10的卤代亚烷基,C4~C20的亚芳基,或C4~C20的卤代亚芳基,所述R3的这些亚烷基和亚芳基可选择地具有取代基和杂原子,所述R3中的一个可选择地与另一个所述R3相键合;
R4代表卤素、C1~C10的烷基,C1~C10的卤代烷基,C4~C20的芳基,C4~C20的卤代芳基或X2R7,所述R4的这些烷基和芳基可选择地具有取代基和杂原子,所述R4中的一个可选择地与另一个所述R4相键合;
X2代表O、S、NR5或NR5R6;
每个R5和R6分别代表H或C1~C10的烷基;
R7代表C1~C10的烷基,C1~C10的卤代烷基,C4~C20的芳基或C4~C20的卤代芳基;
每个x、y和z独立代表1~8的数值;
每个Y1、Y2和Y3独立代表SO2基团或CO基团;以及
每个R8、R9和R10独立代表可选择地具有取代基或杂原子的吸电子有机取代基,所述R8、R9和R10中的至少两个可选择地键合在一起形成环,所述R8、R9和R10中的至少一个可选择地与邻近的分子相键合形成聚合物。
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