[发明专利]液晶显示器面板的制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示器面板的制造方法，包括以下步骤：

    提供一基底，该基底具有一导电层及一位于该导电层上的第一绝缘层，该导电层限定有一接触垫层及一金属层；

    在该金属层上方的第一绝缘层上形成一具有一第一凹槽的第二绝缘层，该第一凹槽使该第一绝缘层曝露且对准该金属层；

    在该接触垫上方的第一绝缘层上形成一具有一第二凹槽的掩模层，该第二凹槽使该第一绝缘层曝露且对该接触垫层；以及

    同时以该第二绝缘层及该掩模层为掩模，对该第一绝缘层进行蚀刻，使该接触垫层及该金属层曝露。

2.如权利要求1所述的方法，其中还包括：

    沉积该第二绝缘层；以及

    移除该接触垫上方的第二绝缘层并在该金属层上方的第二绝缘层形成该第一凹槽。

3.如权利要求1所述的方法，其中还包括：

    沉积该掩模层；以及

    移除该金属层上方的掩模层并在该接触垫上方的掩模层形成该第二凹槽。

4.如权利要求1所述的方法，其中该第二绝缘层一光学型有机平坦化材料层。

5.如权利要求1所述的方法，其中还包括：

    对该第二绝缘层进行曝光并显影而形成该第一凹槽。

6.如权利要求1所述的方法，其中该第二绝缘层为一非光学型有机平坦化材料层。

7.如权利要求6所述的方法，其中还包括：

    在该第二绝缘层上形成的一第一光致抗蚀剂层；以及

    对该光致抗蚀剂层进行曝光及显影，并以显影后的光致抗蚀剂层为掩模，对该第二绝缘层进行蚀刻而形成该第一凹槽。

8.如权利要求1所述的方法，其中在该接触垫上方的第一绝缘层包括一氧化硅层及氮化硅层。

9.如权利要求8所述的方法，其中在该金属层上方的第一绝缘层为一氧化硅层。

10.如权利要求1所述的方法，其中该基底为一硅基底。

11.如权利要求1所述的方法，其中该掩模层为一第二光致抗蚀剂层。

12.如权利要求11所述的方法，其中还包括：

    对该第二光致抗蚀剂层进行曝光及显影而成该第二凹槽。

13.如权利要求1所述的方法，其中该第一凹槽为一介层孔。

14.如权利要求1所述的方法，其中该金属层为一铜层。

15.如权利要求1所述的方法，其中该金属层为一铝层。