[发明专利]多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法

权利要求书

1、一种多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、分三次在所需材料衬底上匀胶，形成符合胶结构；

步骤2、电子束光刻；

步骤3、分别在所需材料衬底上进行三次显影，形成T型槽；

步骤4、蒸发栅金属：钛/金＝300/3000；

步骤5、剥离形成T型栅。

2、根据权利要求1所述的多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，其中步骤1中均胶的复合胶结构为聚异丁烯酸甲脂-聚异丁烯酸甲脂及其甲基丙烯酸共聚物-聚异丁烯酸甲脂三层结构，分别在170℃烘干60分钟。

3、根据权利要求1所述的多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，其中步骤2中的电子束光刻的曝光条件为：500μc、100pA。

4、根据权利要求1所述的多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，其中步骤3中分别在所需衬底上进行三次显影，其分别是：

1：四甲基戊酮/异丙醇＝1/3、温度26℃、显影30秒，异丙醇冲洗，

甩干-80℃烘10分钟，显掉最上面一层，开出栅的窗口；

2：甲醇/异丙醇＝1/1、温度26℃、显影15秒，异丙醇冲洗，甩干-

80℃烘10分钟，显中间层，形成栅的顶部；甲醇/异丙醇显影液只

对聚异丁烯酸甲脂及其甲基丙烯酸共聚物胶起作用，而不会对聚异

丁烯酸甲脂胶产生很大影响，通过控制这一步的显影时间可以调整

T型栅顶部的宽度；

3：四甲基戊酮/异丙醇＝1/3、温度26℃、显影30秒，异丙醇冲洗，

甩干，显最下面一层，形成0.1微米的底部。

5、根据权利要求1所述的多层胶一次电子束曝光多次显影形成T型栅制作方法，其特征在于，其中步骤4中的蒸发栅金属是：钛/金＝300/3000。