[发明专利]太阳光谱选择性吸收涂层无效
| 申请号： | 01118393.4 | 申请日： | 2001-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN1323858A | 公开（公告）日： | 2001-11-28 |
| 发明（设计）人： | 史月艳;申越 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华专利事务所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 太阳 光谱 选择性 吸收 涂层 | ||
【权利要求书】：
1、一种太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，以玻璃、抛光金属为基体，通入纯氩气，在其上先沉积铝膜构成选择性吸收涂层的底层，再通入适量的空气沉积构成吸收层和纯介质的减反射层。
2、根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，采用国产LY11～13铝合金作阴极。
3．根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所说的抛光金属采用光亮铜和铝时，通入氩气和空气沉积构成吸收层和纯介质的减反射层。
4．根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所说的以玻璃为基体时，在纯氩气时沉积铝膜为红外高反射层，其厚度大于0.09×10-6m，再通入空气沉积构成吸收层和纯介质的减反射层。
5．根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所说的吸收层的厚度为0.15×10-6m至0.5×10-6m。
6．根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征是减反射层厚度0.04×10-6m至0.2×10-6m。
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