[发明专利]二吡咯亚甲基-金属螯合物和用它做的光学记录介质无效

专利信息
申请号: 01116852.8 申请日: 2001-02-28
公开(公告)号: CN1317789A 公开(公告)日: 2001-10-17
发明(设计)人: 西本泰三;塚原宇;井上忍;小木曾章;三泽伝美;小池正士 申请(专利权)人: 三井化学株式会社;山本化成株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C07D207/333;C07D207/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王其灏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 吡咯 甲基 金属 螯合物 光学 记录 介质
【权利要求书】:

1、一种光学记录介质,该记录介质包括在基质上至少一个记录层和一个反射层,其中该记录层含有至少一种通式(1)所代表的二吡咯亚甲基-金属螯合物:其中R1-R6独立地代表氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺基、碳原子数高达20的取代的或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰氨基、芳烷基、芳基或杂芳基;R7代表卤素、芳基、杂芳基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、或芳硫基;A代表碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳香环或杂环;L1代表取代的或未取代的二价残基,它与跟它相连的碳原子一起形成环,并且该环可以含有或不含有杂原子;和M1代表过渡金属元素。

2、权利要求1的光学记录介质,其中二吡咯亚甲基-金属螯合物是通式(2)所代表的二吡咯亚甲基-金属螯合物:其中R8-R13独立地代表氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺基、碳原子数高达20的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰氨基、芳烷基、芳基或杂芳基;R14代表卤素、芳基、杂芳基、烷氧基、烷硫基、芳氧基或芳硫基;B代表碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳香环或杂环;L2代表取代的或未取代的亚烷基,它与跟它相连的碳原子一起形成环;和M2代表过渡金属元素。

3、权利要求2的光学记录介质,其中二吡咯亚甲基-金属螯合物是通式(3)所代表的二吡咯亚甲基-金属螯合物:其中R15-R20、R22-R25独立地代表氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺基、碳原子数高达20的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰氨基、芳烷基、芳基或杂芳基;R21代表卤素、碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳基、杂芳基、烷氧基、烷硫基、芳氧基或芳硫基;和M3代表过渡金属元素;

4、权利要求1的光学记录介质,其中通式(1)中的R1是卤素。

5、权利要求2的光学记录介质,其中通式(2)中的R8是卤素。

6、权利要求3的光学记录介质,其中通式(3)中的R15是卤素。

7、权利要求1-6任意一项的光学记录介质,其中记录层还含有至少一种通式(4)所代表的二吡咯亚甲基-金属螯合物:其中R26-R33独立地代表氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺基、碳原子数高达20的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰氨基、芳烷基、芳基或杂芳基;R34代表卤素、碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳基、杂芳基、烷氧基、烷硫基、芳氧基或芳硫基;和M4代表过渡金属元素。

8、权利要求1-7任意一项的光学记录介质,其中记录层在激光波长下的折射率至少为1.8,消光系数为0.04-0.40。

9、权利要求1-7任意一项的光学记录介质,其中,用波长为520-690的激光束可以进行记录和再生。

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