[发明专利]聚合物配混料及其制备方法,光敏组合物及制备图案的方法无效
| 申请号: | 01110827.4 | 申请日: | 2001-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN1308094A | 公开(公告)日: | 2001-08-15 |
| 发明(设计)人: | 宇都宫伸;山田圣悟 | 申请(专利权)人: | 东洋合成工业株式会社 |
| 主分类号: | C08J3/20 | 分类号: | C08J3/20;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 任宗华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 聚合物 料及 制备 方法 光敏 组合 图案 | ||
1.一种聚合物配混料,该聚合物配混料含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元:
其中R1-R4分别是氢和/或甲基;P表示1-10之间所含的一个整数;X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵:
其中R5-R8分别表示氢、C1-C3的烷基或C1-C3的烷醇基;并且多个Xs可以彼此相同或不同,
这些单体单元的组成比例在下述范围之内:2%摩尔≤l≤73%摩尔;8%摩尔≤m≤83%摩尔;和15%摩尔≤n≤80%摩尔。
2.一种权利要求1的聚合物配混料,该聚合物配混料除含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元以外,还含有10%摩尔或更少的其它单体单元。
3.一种制备含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元的聚合物配混料的方法:
其中R1-R4分别是氢和/或甲基;P表示1-10之间所含的一个整数;X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵:
其中R5-R8分别表示氢、C1-C3的烷基或C1-C3的烷醇基;并且多个Xs可以彼此相同或不同,这些单体单元的组成比例在下述范围之内:2%摩尔≤l≤73%摩尔;8%摩尔≤m≤83%摩尔;和15%摩尔≤n≤80%摩尔,
该方法包括,将缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯,以预定的量加入到包含至少(甲基)丙烯酸和至少(甲基)丙烯酸-2-羟乙基酯和聚氧乙烯单(甲基)丙烯酸酯的一种的共聚物中。
4.一种权利要求3的制备聚合物配混料的方法,其中,N-亚硝基苯基羟基胺铵盐和4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-烃氧基哌啶的至少一种被用作聚合抑制剂。
5.一种光敏组合物,含有作为组分的、如权利要求1所述的聚合物配混料。
6.一种权利要求5的光敏组合物,含有作为溶剂的水。
7.一种权利要求5的光敏组合物,含有可聚合的单体。
8.一种权利要求5的光敏组合物,含有着色剂。
9.一种权利要求5的光敏组合物,含有光聚合引发剂和光敏剂的至少一种。
10.一种制备图案方法,该方法包括,用如权利要求5所述的光敏组合物制成涂料膜,并用水,即中性显影剂显影。
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