[发明专利]聚合物配混料及其制备方法,光敏组合物及制备图案的方法无效

专利信息
申请号: 01110827.4 申请日: 2001-01-17
公开(公告)号: CN1308094A 公开(公告)日: 2001-08-15
发明(设计)人: 宇都宫伸;山田圣悟 申请(专利权)人: 东洋合成工业株式会社
主分类号: C08J3/20 分类号: C08J3/20;G03F7/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 任宗华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 料及 制备 方法 光敏 组合 图案
【权利要求书】:

1.一种聚合物配混料,该聚合物配混料含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元:

其中R1-R4分别是氢和/或甲基;P表示1-10之间所含的一个整数;X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵:

其中R5-R8分别表示氢、C1-C3的烷基或C1-C3的烷醇基;并且多个Xs可以彼此相同或不同,

这些单体单元的组成比例在下述范围之内:2%摩尔≤l≤73%摩尔;8%摩尔≤m≤83%摩尔;和15%摩尔≤n≤80%摩尔。

2.一种权利要求1的聚合物配混料,该聚合物配混料除含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元以外,还含有10%摩尔或更少的其它单体单元。

3.一种制备含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元的聚合物配混料的方法:

其中R1-R4分别是氢和/或甲基;P表示1-10之间所含的一个整数;X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵:

其中R5-R8分别表示氢、C1-C3的烷基或C1-C3的烷醇基;并且多个Xs可以彼此相同或不同,这些单体单元的组成比例在下述范围之内:2%摩尔≤l≤73%摩尔;8%摩尔≤m≤83%摩尔;和15%摩尔≤n≤80%摩尔,

该方法包括,将缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯,以预定的量加入到包含至少(甲基)丙烯酸和至少(甲基)丙烯酸-2-羟乙基酯和聚氧乙烯单(甲基)丙烯酸酯的一种的共聚物中。

4.一种权利要求3的制备聚合物配混料的方法,其中,N-亚硝基苯基羟基胺铵盐和4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-烃氧基哌啶的至少一种被用作聚合抑制剂。

5.一种光敏组合物,含有作为组分的、如权利要求1所述的聚合物配混料。

6.一种权利要求5的光敏组合物,含有作为溶剂的水。

7.一种权利要求5的光敏组合物,含有可聚合的单体。

8.一种权利要求5的光敏组合物,含有着色剂。

9.一种权利要求5的光敏组合物,含有光聚合引发剂和光敏剂的至少一种。

10.一种制备图案方法,该方法包括,用如权利要求5所述的光敏组合物制成涂料膜,并用水,即中性显影剂显影。

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