[发明专利]磁电阻效应装置、磁头、磁记录设备和存储装置无效
申请号: | 01109991.7 | 申请日: | 2001-08-03 |
公开(公告)号: | CN1359099A | 公开(公告)日: | 2002-07-17 |
发明(设计)人: | 榊间博;川分康博;杉田康成 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127;G11B5/39 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蹇炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁电 效应 装置 磁头 记录 设备 存储 | ||
1.一种磁电阻效应装置,包括:
一自由层,其磁化方向可容易地被一外部磁场旋转;
一非磁性层;和
一被钉扎层,其磁化方向不能容易地被一外部磁场旋转,该被钉扎层位于与形成自由层的表面相对的非磁性层的表面上,
其中被钉扎层包括:
一用于交换耦合的第一非磁性膜;和
通过第一非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第一和第二磁性膜,和
第一非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一。
2.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中该磁电阻效应装置为沟道型磁电阻效应装置。
3.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中进一步包括一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性膜。
4.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中
该自由层包括:
用于交换耦合的一第二非磁性层,和
通过第二非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第三和第四磁性膜;
用于交换耦合的第二非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一;和
第三磁性膜的磁化密度为M1,厚度为t1,第四磁性膜的磁化密度为M2,厚度为t2,积(M1×t1)基本上不同于积(M2×t2)。
5.根据权利要求4的磁电阻效应装置,其中第一至第四磁性膜中的至少一个主要包含钴(Co)并包含硼(B)。
6.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中第一和第二磁性膜中的至少一个主要包含钴(Co)并包含硼(B)。
7.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中进一步包括:
一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性层;和
主要包含NiFeCr的底层,该底层位于与形成被钉扎层的表面相对的反铁磁性层的表面上。
8.一种磁电阻效应装置,包括:
一自由层,其磁化方向可容易地被一外部磁场旋转;
一非磁性层;和
一被钉扎层,其磁化方向不能容易地被一外部磁场旋转,该被钉扎层位于与形成自由层的表面相对的非磁性层的表面上,
其中该被钉扎层包括:
一用于交换耦合的第一非磁性膜;和
通过第一非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第一和第二磁性膜,
第一非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一,和
第一磁性膜的磁化密度为M1,厚度为t1,第二磁性膜的磁化密度为M2,厚度为t2,积(M1×t1)基本上不同于积(M2×t2)。
9.根据权利要求8的磁电阻效应装置,其中该磁电阻效应装置为沟道型磁电阻效应装置。
10.根据权利要求8的磁电阻效应装置,其中进一步包括:
一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性层;和
主要包含NiFeCr的底层,该底层位于与形成被钉扎层的表面相对的反铁磁性层的表面上。
11.一种磁头,用于检测来自记录介质的信号磁场,包括:
分别包括一种磁性物质的两个屏蔽部;和
位于该两个屏蔽部之间的间隙中的如权利要求1所述的磁电阻效应装置。
12.一种磁头,用于检测来自记录介质的信号磁场,包括:
分别包括一种磁性物质的两个屏蔽部;和
位于该两个屏蔽部之间的间隙中的如权利要求8所述的磁电阻效应装置。
13.一种磁头,包括:
一包括一种磁性物质的磁通引导部;和
用于检测由磁通引导部引入的信号磁场的如权利要求1所述的磁电阻效应装置。
14.一种磁头,包括:
一包括一种磁性物质的磁通引导部;和
用于检测由磁通引导部引入的信号磁场的如权利要求8所述的磁电阻效应装置。
15.一种磁性记录介质,包括:
用于将信号记录在记录介质中的如权利要求11所述的磁头;
一个臂,其上安装磁头;
一驱动该臂的驱动部;和
一信号处理部,用于处理信号,并将处理后的信号提供给磁头。
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