[发明专利]磁电阻效应装置、磁头、磁记录设备和存储装置无效

专利信息
申请号: 01109991.7 申请日: 2001-08-03
公开(公告)号: CN1359099A 公开(公告)日: 2002-07-17
发明(设计)人: 榊间博;川分康博;杉田康成 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127;G11B5/39
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蹇炜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁电 效应 装置 磁头 记录 设备 存储
【权利要求书】:

1.一种磁电阻效应装置,包括:

一自由层,其磁化方向可容易地被一外部磁场旋转;

一非磁性层;和

一被钉扎层,其磁化方向不能容易地被一外部磁场旋转,该被钉扎层位于与形成自由层的表面相对的非磁性层的表面上,

其中被钉扎层包括:

一用于交换耦合的第一非磁性膜;和

通过第一非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第一和第二磁性膜,和

第一非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一。

2.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中该磁电阻效应装置为沟道型磁电阻效应装置。

3.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中进一步包括一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性膜。

4.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中

该自由层包括:

用于交换耦合的一第二非磁性层,和

通过第二非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第三和第四磁性膜;

用于交换耦合的第二非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一;和

第三磁性膜的磁化密度为M1,厚度为t1,第四磁性膜的磁化密度为M2,厚度为t2,积(M1×t1)基本上不同于积(M2×t2)。

5.根据权利要求4的磁电阻效应装置,其中第一至第四磁性膜中的至少一个主要包含钴(Co)并包含硼(B)。

6.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中第一和第二磁性膜中的至少一个主要包含钴(Co)并包含硼(B)。

7.根据权利要求1的磁电阻效应装置,其中进一步包括:

一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性层;和

主要包含NiFeCr的底层,该底层位于与形成被钉扎层的表面相对的反铁磁性层的表面上。

8.一种磁电阻效应装置,包括:

一自由层,其磁化方向可容易地被一外部磁场旋转;

一非磁性层;和

一被钉扎层,其磁化方向不能容易地被一外部磁场旋转,该被钉扎层位于与形成自由层的表面相对的非磁性层的表面上,

其中该被钉扎层包括:

    一用于交换耦合的第一非磁性膜;和

    通过第一非磁性膜彼此反铁磁性交换耦合的第一和第二磁性膜,

第一非磁性膜包含Ru、Ir、Rh和Re的氧化物之一,和

第一磁性膜的磁化密度为M1,厚度为t1,第二磁性膜的磁化密度为M2,厚度为t2,积(M1×t1)基本上不同于积(M2×t2)。

9.根据权利要求8的磁电阻效应装置,其中该磁电阻效应装置为沟道型磁电阻效应装置。

10.根据权利要求8的磁电阻效应装置,其中进一步包括:

一与被钉扎层磁性交换耦合的反铁磁性层;和

主要包含NiFeCr的底层,该底层位于与形成被钉扎层的表面相对的反铁磁性层的表面上。

11.一种磁头,用于检测来自记录介质的信号磁场,包括:

分别包括一种磁性物质的两个屏蔽部;和

位于该两个屏蔽部之间的间隙中的如权利要求1所述的磁电阻效应装置。

12.一种磁头,用于检测来自记录介质的信号磁场,包括:

分别包括一种磁性物质的两个屏蔽部;和

位于该两个屏蔽部之间的间隙中的如权利要求8所述的磁电阻效应装置。

13.一种磁头,包括:

一包括一种磁性物质的磁通引导部;和

用于检测由磁通引导部引入的信号磁场的如权利要求1所述的磁电阻效应装置。

14.一种磁头,包括:

一包括一种磁性物质的磁通引导部;和

用于检测由磁通引导部引入的信号磁场的如权利要求8所述的磁电阻效应装置。

15.一种磁性记录介质,包括:

用于将信号记录在记录介质中的如权利要求11所述的磁头;

一个臂,其上安装磁头;

一驱动该臂的驱动部;和

一信号处理部,用于处理信号,并将处理后的信号提供给磁头。

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