[发明专利]磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层无效

专利信息
申请号: 01103032.1 申请日: 1995-10-17
公开(公告)号: CN1332446A 公开(公告)日: 2002-01-23
发明(设计)人: A·格里尔;V·V·帕特尔 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G11B5/72 分类号: G11B5/72;G11B5/255;C23C16/27
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王忠忠
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 媒体 器件 氟化 处理 金刚石 保护 覆层
【权利要求书】:

1.一种在其表面上涂有耐磨的经氟化处理的类金刚石碳膜的器件,所述碳膜包括在大约10%和大约70%之间的原子的氟。

2.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜的F/(F+C)的原子比最好在大约10%和大约40%之间。

3.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜所含的氢原子浓度在大约0和大约40%原子之间,最好在大约0和大约20%原子之间。

4.根据权利要求1的器件,其特征在于,在初始负载为300MPa的情况下,当在用410C滚珠轴承钢所组成的销在销-盘摩擦测试台上测试时,该碳膜磨损率不大于70nm/千转。

5.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜最好具有不大于1nm/千转的磨损率。

6.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜具有减低的湿润度。

7.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜具有低静摩擦力,以及提高了的耐磨性。

8.根据权利要求1的器件,其特征在于该碳膜淀积在一层涂覆在所述器件表面上的未经氟化处理的类金刚石碳膜上。

9.一种形成耐磨的经氟化处理的类金刚石碳膜的方法,采用离子辅助淀积技术,利用从六氟苯和氢以及五氟苯和氢所组成的物质组中所选出的反应剂混合物而制成所述耐磨的经氟化处理的类金刚石碳膜。

10.根据权利要求9的方法,其特征在于还包括以下步骤:

使衬底受到负偏压的作用。

11.根据权利要求9的方法,其特征在于所述离子辅助淀积技术是等离子体辅助化学蒸气淀积技术。

12.根据权利要求9的方法,其特征在于所述碳膜淀积在一层未经氟化处理的类金刚石碳膜上。

13.一种使用耐磨的经氟化处理的类金刚石碳膜的方法,包括在大约10和大约70%原子之间的氟,作为保护性涂层。

14.根据权利要求13的方法,其特征在于所述碳膜用作低摩擦力耐磨涂层。

15.根据权利要求13的方法,其特征在于所述碳膜用作减低了静摩擦力的涂层。

16.根据权利要求13的方法,其特征在于所述碳膜淀积在一层未经氟化处理的类金刚石碳膜上。

17.一种经氟化处理的类金刚石碳膜,在其整个厚度上含有大约10%和大约70%原子之间的氟。

18.一种形成经氟化处理的类金刚石碳膜的方法,采用离子辅助淀积技术,利用从六氟苯和氢以及五氟苯和氢所组成的物质组中所选出的反应剂混合物而制成所述经氟化处理的类金刚石碳膜。

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