[发明专利]化学惰性的兆赫声波换能器系统无效

专利信息
申请号: 00812107.9 申请日: 2000-08-25
公开(公告)号: CN1371531A 公开(公告)日: 2002-09-25
发明(设计)人: M·J·贝克;R·B·韦内贝克 申请(专利权)人: 产品系统公司
主分类号: H01L41/08 分类号: H01L41/08
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 程伟,彭益群
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化学 惰性 兆赫 声波 换能器 系统
【权利要求书】:

1.一种兆赫声波清洗系统,包括:

一个容器,它具有一个保存一定体积清洗溶液的液体室;

一个谐振器,选自蓝宝石、石英、碳化硅、氮化硅和陶瓷,该谐振器具有一个邻接液体室的界面表面,当清洗溶液的体积存在于该液体室时该界面表面与至少一定量的清洗溶液接触;

一个压电晶体,当电源施加给该压电晶体时用于产生频率范围为0.4~2.0Mhz的声能;

一个由铟构成的结合层,设置在该谐振器和该压电晶体之间,用于将该压电晶体连接于能量传输件。

2.根据权利要求1的兆赫声波清洗系统,其中结合层的铟由至少99.99%的纯铟构成。

3.根据权利要求1的兆赫声波清洗系统,其中谐振器由蓝宝石构成。

4.根据权利要求1的兆赫声波清洗系统,其中谐振器由石英构成。

5.根据权利要求1的兆赫声波清洗系统,其中压电晶体由锆钛酸铅构成。

6.一种兆赫声波清洗系统,包括:

一个容器,它具有一个用于保存一定体积清洗溶液的液体室;

一个谐振器,选自蓝宝石、石英、碳化硅、氮化硅和陶瓷,该谐振器具有一个邻接液体室的界面表面,当清洗溶液存在于该液体室时该界面表面与至少一定量清洗溶液接触;

一个压电晶体,当电源施加给该压电晶体时用于产生频率范围为0.4~2.0Mhz的声能;

一个由铟构成的结合层,设置在该谐振器和该压电晶体之间,用于将该压电晶体连接于能量传输件;

一个第一粘接层,设置成与压电晶体的表面接触;

一个第一润湿层,设置在该第一粘接层与该结合层之间,用于帮助将该结合层结合于该第一粘接层。

7.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中结合层的铟由至少99.99%的纯铟构成。

8.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中谐振器由蓝宝石构成。

9.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中谐振器由石英构成。

10.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中压电晶体由锆钛酸铅构成。

11.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中第一粘接层由铬构成。

12.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,其中第一润湿层由银构成。

13.根据权利要求6的兆赫声波清洗系统,还包括:

一个第二粘接层,设置成与谐振器的表面接触;和

一个第二润湿层,设置在该第二粘接层与该结合层之间,该结合层用于帮助将该结合层结合于该第二粘接层。

14.根据权利要求13的兆赫声波清洗系统,其中第二粘接层由铬构成。

15.根据权利要求13的兆赫声波清洗系统,其中第二润湿层由银构成。

16.根据权利要求13的兆赫声波清洗系统,还包括:

一个第三粘接层,设置成与该压电晶体的表面接触;和

一个金属层,设置成与该第三粘接层的表面接触,该表面面向离开压电晶体。

17.根据权利要求16的兆赫声波清洗系统,其中该第三粘接层由铬构成。

18.根据权利要求16的兆赫声波清洗系统,其中该金属层由银构成。

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