[发明专利]净化含氧气体的方法和设备

权利要求书

1.一种净化含氧气体的方法，所述的方法包括在含氧化钛的光催化剂存在下用紫外线照射所述的含氧气体。

2.根据权利要求1的方法，其中所述的方法包括第一步在所述的含氧气体中产生臭氧；第二步用≥200纳米但＜300纳米的中波长紫外线进一步照射在第一步中处理过的气体，以便形成活性氧；以及第三步，用≥300纳米但＜380纳米的长波长紫外线进一步照射在第二步中处理过的气体，以便使所述的活性氧转为成基态氧分子，至少所述的第二步和/或第三步在光催化剂存在下进行。

3.根据权利要求2的方法，其中所述的第一步为＜200纳米的短波长紫外线照射含氧气体的步骤。

4.根据权利要求1-3中任一项的方法，其中所述的光催化剂包含氧化钛颗粒，它负载有作为电极的另一金属的细颗粒。

5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中所述的光催化剂包含斜方晶系的氧化钛颗粒或负载有另一金属细颗粒的斜方晶系氧化钛颗粒。

6.根据权利要求5的方法，其中所述的斜方晶系氧化钛颗粒为板钛矿颗粒。

7.根据权利要求2或3的方法，其中所述的方法还包括用红外线灯发出的射线和卤灯发出的射线照射在所述的第三步中处理过的含氧气体以便使气体干燥的步骤。

8.根据权利要求1-7中任一项的方法，其中所述的含氧气体为空气。

9.一种净化含氧气体的设备，所述的设备包括第一处理室，有提供含氧气体的设备和在所提供的含氧气体中产生臭氧的设备；与第一处理室相连的第二处理室，有≥200纳米但＜300纳米的中波长紫外线照射设备；与第二处理室相连的第三处理室，有≥300纳米但＜380纳米的长波长紫外线照射设备；和将第三处理室中处理过的含氧气体排放到设备外的设备，所述的第二处理室和/或第三处理室装有含氧化钛的光催化剂。

10.根据权利要求9的设备，其中所述的产生臭氧的设备为≥110纳米但＜200纳米的短波长紫外线照射设备。

11.根据权利要求9或10的设备，其中所述的光催化剂含有作为光半导体颗粒的氧化钛颗粒，负载有作为电极的另一金属细颗粒。

12.根据权利要求9或10的设备，其中所述的光催化剂含有斜方晶系的氧化钛颗粒或负载有另一金属细颗粒的斜方晶系氧化钛颗粒。

13.根据权利要求12的设备，其中所述的斜方晶系氧化钛颗粒为板钛矿颗粒。

14.根据权利要求9的设备，其中所述的第三处理室还装有这样一干燥室，其中顺序安装两部分，一部分用于红外线灯产生的射线照射在第三处理室中处理过的含氧气体，而另一部分用于卤灯产生的射线照射在第三处理室中处理过的含氧气体。