[发明专利]制造钻头的方法与装置

权利要求书

1.一种支承架，用于在气相沉积室中支承一系列钻头，以允许陶瓷涂层沉积在从钻头钻尖部延伸的区域，支承架具有空心的内腔和至少一个带多孔的外壁，该外壁设有通孔阵列，钻头可插入该通孔，使所述沉积区突出于支承架之外，在支承架空心的内部的所述壁或每一所述壁上，为插入的钻头设置了支承，用以使钻头以其柄部本质上平行地安装，而止挡装置使相同直径的钻头从所述外壁向外延伸的长度本质上相同。

2.如权利要求1所述的支承架，其中，止挡装置包括设置在支承架内的后壁，该后壁平行于所述外壁。

3.如权利要求2所述的支承架，其中，内壁设置在外壁和后壁之间，并设有与外壁上所述通孔阵列相对应的通孔阵列，用于使钻头以其柄部平行地设置。

4.如权利要求1至3其中之一所述的支承架，该支承架具有六边形的外周边，所述至少一个外壁构成所述外周边的至少一个面。

5.一种支承架，用于在气相沉积室中支承一系列钻头，以允许陶瓷涂层沉积在从钻头钻尖部延伸的区域，支承架具有被构成外壁的六边形表面包围的空心内腔，所述六边形表面每相隔一个表面的表面上制出通孔阵列，钻头可插入此通孔中，使所述区域从支承架向外突出，在支承架空心的内腔内设置了一种用于支承钻头的装置，该装置使钻头柄本质上平行，并使相同直径的钻头从每一个外壁向外延伸的长度本质上相同。

6.如权利要求5所述的支承架，其中，平行于每一外壁设置了带多孔的内壁，所述内壁具有与在外壁上设置的通孔阵列相对应的通孔阵列。

7.如权利要求5或权利要求6所述的支承架，其中，在支承架空心内腔内，平行于每一所述带通孔的外壁设置了后壁，用于与插入的钻头的尾端贴靠。

8.如上述权利要求其中之一所述的支承架，设置了从上方屏蔽空心内腔的盖，所述盖设置了通道，用于允许气体在支承架内和支承架外之间流动。

9.如上述权利要求其中之一所述的支承架，设置了一种装置，该装置使支承架可以叠放在具有相应外壁结构形状的第二支承架上。

10.如权利要求8所述的支承架，具有用于贴靠在一起的顶面和底面，因此使两个相应的支承架一个支承在另一个之上，突出于所述表面贴靠部的凸缘，用于在贴靠表面间为连接提供一种截止功能。

11.一种对一系列钻头进行气相沉积涂层的方法，其中，钻头被插入一种具有多边形表面的空心支承架，使将要涂层的钻头尖部从所述多边形的至少一个外表面突出，支承架连同插入的钻头尖部在气相沉积室中旋转，以允许每一钻头尖部在处理周期的至少一部分时间内，从支承架向真空室周边突出，在涂层沉积完成后引入真空室的气体，允许通过支承架的空心内腔循环。