[发明专利]用于光学存储介质的基片无效
| 申请号： | 00807452.6 | 申请日： | 2000-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN1363090A | 公开（公告）日： | 2002-08-07 |
| 发明（设计）人： | V·维格;F·K·布鲁德尔;R·杜亚丁;陈耘 | 申请（专利权）人： | 拜尔公司;帝人株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,姜建成 |
| 地址： | 德国莱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光学 存储 介质 | ||
【权利要求书】：
1.以乙烯基环己烷的均聚物、共聚物和/或嵌段聚合物为基础的基片，此处的共聚单体选自烯烃、丙烯酸衍生物、马来酸衍生物、乙烯基醚和乙烯基酯类或它们中的至少两种共聚单体的混合物，其特征在于，该基片的惯性矩为280至50g·cm2和比重为1至0.8g/cm3。
2.按权利要求1的基片，其特征在于，惯性矩为260至100g·cm2。
3.按权利要求1或2的基片，其特征在于，比重为0.98至0.90g/cm3。
4.按权利要求1至3以一种含有式(I)重复结构单元的乙烯基环己烷(共)聚合物或它们的一种混合物为基础的基片其中
R1和R2互不关联地为氢或C1-C6烷基和
R3和R4互不关联地为氢或C1-C6烷基或者R3和R4一起形成亚烷基，
R5为氢或C1-C6烷基。
5.以苯乙烯-异戊二烯-嵌段-和/或共聚合物为基础的基片。
6.按上述权利要求之一项或多项的基片，其特征在于，射入基片上光的光程差与垂直射入角和偏离到最高至27°角相关，此光程差的差别通常为0至60nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拜尔公司;帝人株式会社，未经拜尔公司;帝人株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00807452.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：物体处理机
- 下一篇：一种或多种氧化的类胡萝卜素干粉的制备方法
