[发明专利]氧化物玻璃的硫属化物掺杂

权利要求书

1.一种光波导，其特征在于，包含至少85mol％的二氧化硅和至少0.01mol％的硫属化物。

2.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，所述波导是一根包括纤芯和包层区的光纤，所述纤芯和包层的折射率的彼此配置使得纤芯能够导光。

3.如权利要求1所述的含硫属化物的硅酸盐玻璃，其特征在于，所述硫属化物包括硫和硒。

4.如权利要求2所述的光波导，其特征在于，所述光纤的纤芯至少包括0.05mol％的硫。

5.如权利要求2所述的光波导，其特征在于，所述光纤的纤芯至少包括0.1mol％的硫。

6.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，所述波导包括至少0.05mol％的硫。

7.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，所述波导包括至少0.05mol％的硫。

8.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，还包括选自由磷、铝和硼及其混合物构成的组的元素。

9.如权利要求2所述的光波导，其特征在于，还包括选自由磷、铝和硼以及其混合物构成的组的元素。

10.如权利要求5所述的光波导，其特征在于，还包括选自由磷、铝和硼以及其混合物构成的组的元素。

11.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，还包括选自由锗、钛、锆、镧、砷和锑构成的组的金属离子。

12.如权利要求2所述的光波导，其特征在于，还包括选自由锗、钛、锆、镧、砷和锑构成的组的金属离子。

13.如权利要求5所述的光波导，其特征在于，还包括选自由锗、钛、锆、镧、砷和锑构成的组的金属离子。

14.如权利要求9所述的光波导，其特征在于，还包括选自由锗、钛、锆、镧、砷和锑构成的组的金属离子。

15.如权利要求1所述的光波导，其特征在于，所述波导的折射率沿其长度有选择地改变。

16.如权利要求15所述的光波导，其特征在于，所述波导包括在高折射率和低折射率分层之间改变的折射率。

17.如权利要求15所述的光波导，其特征在于，所述波导被制成选自由放大光纤、传输光纤或激光器构成的组的制品。

18.一种用于制造含硫的光波导预制件的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

在可以有效沉积的条件下，在存在含有前质化合物的硫属化物和形成前质化合物的二氧化硅的情况下，点燃基管中的等离子体，并且将由掺所述硫属化物材料的二氧化硅组成的玻璃沉积物沉积到所述管的内部。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述等离子体由等离子体增强化学汽相沉积工艺形成。

20.如权利要求18所述的方法，其特征在于，在所述沉积步骤期间，所述管子加热到1100℃以上的温度。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，所述沉积步骤发生在存在适量氧气的时候，所述适量氧气大致等于或少于将存在的硅原子量转换成一种化学当量的二氧化硅玻璃沉积物所需的氧气量。

22.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述硫属化物材料包括硫、硒或其混合物。

23.如权利要求19所述的方法，其特征在于，选择所述前质材料，并且所述条件对产生含有至少0.05mol％的硫的玻璃沉积物是有效的。

24.如权利要求19所述的方法，其特征在于，选择所述前质材料，并且所述条件对产生含有至少0.01mol％的硫的玻璃沉积物是有效的。

25.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述沉积步骤发生在存在选自由磷、铝和硼及其混合物构成的组的元素时，并且导致沉积所选元素。

26.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述沉积步骤发生在存在选自由锗、钛、锆、镧、砷和锑构成的组的元素时，并且导致沉积所述元素。

27.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述沉积步骤发生在存在选自由镧系金属构成的组的元素时，并且导致沉积所述元素。