[发明专利]制造低浑浊度涂层的方法及用该方法制造的涂层和涂装制品

权利要求书

1.一种涂层，包括：

一个第一涂层表面；

一个第二涂层表面；和

至少一个断开层，它位于第一和第二涂层表面之间，断开层成形为中断涂层的晶体结构。

2.按照权利要求1所述的涂层，其特征在于：第一和第二涂层表面基本上是结晶形的，而断开层基本上是非结晶形的。

3.按照权利要求1所述的涂层，其特征在于：第一和第二涂层表面至少其中之一包括至少一种金属氧化物和至少一种掺杂剂。

4.按照权利要求1所述的涂层，其特征在于：断开层包括至少一种金属氧化物和磷。

5.按照权利要求1所述的涂层，其特征在于：断开层包括至少一种金属氧化物和硅。

6.涂层，包括：

一个基本上是结晶形的第一层；

一个沉积在第一层上基本上是结晶形的第二层；和

一个断开层，它位于第一和第二层之间，断开层成形为防止或至少减少第二层在第一层上外延生长。

7.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：第一层包括一种金属氧化物。

8.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：第一层包括一种至少具有一种掺杂剂的金属氧化物。

9.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：第一层具有约1000-2300的厚度。

10.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：第一层和第二层的至少其中之一包括：(a)一种金属氧化物，它从一组金属氧化物中选出，这组金属氧化物包括Zn、Fe、Mn、Al、Ti、In、Zr、Ce、Sn、Si、Cr、Sb、Co的氧化物，及其混合物；和(b)至少一种掺杂剂，它从一组掺杂剂中选出，这组掺杂剂包括Sn、Sb、F、In，及其混合物。

11.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：第二层具有约2000-5000的厚度。

12.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：断开层包括氧化锡和磷。

13.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：断开层包括氧化锡和二氧化硅。

14.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：断开层具有约100-1000的厚度。

15.按照权利要求6所述的涂层，其特征在于：断开层是非结晶形的。

16.涂层，包括：

一个基本上是结晶形的第一层，它包括掺锑氧化锡，第一层并具有约1200-2300的厚度；

一个基本上是结晶形的第二层，它沉积在第一层上，第二层包括掺氟氧化锡并具有约3000-约3600的厚度；和

一个断开层，它位于第一层和第二层之间，将断开层成形为防止或至少减少第二层外延生长在第一层上。

17.按照权利要求16所述的涂层，其特征在于：断开层具有约100-1000的厚度，并且断开层包括氧化锡，该氧化锡具有磷和二氧化硅的至少其中之一。

18.涂装制品，包括：

一个底材；和

一个涂层，它沉积在底材的至少其中一部分上，涂层包括：

第一涂层表面；

第二涂层表面；和

至少一个断开层，它位于第一和第二涂层表面之间，并成形为隔断涂层的晶体结构。

19.按照权利要求18所述的涂层，其特征在于：第一和第二涂层表面基本上是结晶形的，而断开层基本上是非结晶形的。

20.按照权利要求18所述的涂层，其特征在于：第一涂层表面还包括至少一种金属氧化物。

21.按照权利要求20所述的涂层，其特征在于：第一涂层表面还包括至少一种掺杂剂。

22.按照权利要求18所述的涂层，其特征在于：第二涂层表面包括至少一种金属氧化物。

23.按照权利要求22所述的涂层，其特征在于：第二涂层表面还包括至少一种掺杂剂。

24.按照权利要求18所述的涂层，其特征在于：断开层包括至少一种金属氧化物和磷。