[发明专利]多模光纤及其形成方法

权利要求书

1.一种形成多模光纤的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：

使含有先质反应剂和至少一种掺杂物反应剂的硅石热化学反应以形成烟灰；

以足以产生具有规定特性的玻璃预型件的方式将该烟灰传送到目标；以及

将所述玻璃预型件拉制成具有62.5μm纤芯区和束缚该纤芯区的包层区的多模光纤，其中，所述反应步骤包括根据足以使多模光纤呈现DMD分布的烟灰沉积配方选择所述先质反应剂和所述至少一种掺杂物反应剂，当在1300nm波长测量时，所述DMD分布包括从(r/a)²＝0.0到0.25的第一区域上测量的第一平均斜率，和从(r/a)²＝0.25到0.50的第二区域上测量的第二平均斜率，以及其中，第一平均斜率大于第二平均斜率。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一种掺杂物反应剂包括锗，其中，所述反应步骤包括使所述锗热化学反应以形成包含烟灰的germania的步骤，其中，所述传送步骤包括有选择地将足够数量的包含烟灰的germania传送到目标，以导致在第一区域上的平均斜率比第二区域上的平均斜率大至少1.5倍。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤呈现在第一区域至少+0.3nsec/km的DMD变化的步骤。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤呈现在第一区域至多+1.25nsec/km的DMD变化的步骤。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤呈现在第二区域至多+0.30nsec/km的DMD变化的步骤。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤包括具有从(r/a)²＝0.4到0.6第三区域上测量的第三平均斜率的DMD分布的步骤，以及其中，在第三区域上DMD的变化至多+0.20nsec/km。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述至少一种掺杂物反应剂包括锗，其中，所述反应步骤包括使所述锗热化学反应以形成包含烟灰的germania的步骤，以及其中，所述传送步骤包括有选择地将足够数量的包含烟灰的germania传送到目标，以导致在第一区域上的平均斜率比第二区域上的平均斜率大至少2倍。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤呈现在第一区域至少+0.40nsec/km的DMD变化的步骤。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述至少一种掺杂物反应剂包括锗，其中，所述反应步骤包括使所述锗热化学反应以形成包含烟灰的germania的步骤，其中，所述传送步骤包括有选择地将足够数量的包含烟灰的germania传送到目标，以导致在第一区域上的平均斜率比第二区域上的平均斜率大至少3倍。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于：所述反应步骤包括选择大量的所述锗，足以导致所述多模光纤呈现在第一区域至少+0.5nsec/km的DMD变化的步骤。

11.一种多模光纤，其特征在于它包括：

直径约62.5μm的纤芯；和

束缚所述纤芯的其折射率小于所述纤芯折射率的包层，其中，所述多模光纤呈现DMD分布，当在1300nm波长测量时，所述DMD分布包括从(r/a)²＝0.0到0.25测量平均斜率的第一区域，和从(r/a)²＝0.25到0.50测量平均斜率的第二区域，以及其中，第一区域的平均斜率大于第二区域的平均斜率。

12.如权利要求11所述的多模光纤，其特征在于：DMD从(r/a)²＝0.0到0.25的变化是DMD从(r/a)²＝0.25到0.50的变化的至少1.5倍。

13.如权利要求12所述的多模光纤，其特征在于：DMD从(r/a)²＝0.0到0.25的变化至少是+0.3nsec/km。