[发明专利]以氢气或氘气使玻璃光致敏的方法及用该方法制造的波导

权利要求书

1.一种提高光波导感光性的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

对光波导加载一种气体以形成一相关的本底折射率，所述气体为H₂或D₂；

至少处理一部分所述加载光波导，以改变所述处理部分的本底折射率；

使所述气体散离所述加载光波导，以稳定本底折射率的被造成的改变，在扩散步骤后，所述光波导保留了足以相对本底折射率经稳定的改变再产生大于10^-5折射率变化的紫外感光性；和

至少处理所述处理部分，使本底折射率经稳定的改变发生变化。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一处理步骤包括用均匀紫外辐射光束照射的步骤。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一处理步骤包括用非均匀紫外辐射光束照射的步骤。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在扩散步骤后还包括将光栅写入所述光波导的步骤。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，写入光栅的步骤包括写入FBG器件或写入LPG器件的步骤。

6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，在扩散步骤后还包括将一抽样光栅写入所述光波导的步骤。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理步骤包括用红外辐射照射的步骤。

8.一种调谐光栅的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

对光波导加载一种气体，所述气体为H₂或D₂；

用辐射至少照射一部分所述加载光波导，以便将一光栅写入所述加载光波导的所述至少一部分中；

使所述气体散离所述加载光波导；和

对所述被照射部分的至少一部分进行辐射曝光，以改变所述光栅的折射率。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述照射步骤包括下述步骤：

使紫外辐射通过一振幅掩模，以在所述光波导中形成LPG；或者

使紫外辐射通过一相位掩模，以在所述光波导中形成FBG。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述曝光步骤包括用均匀的紫外辐射光束泛光照射所述光波导的所述至少一部分。

11.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述曝光步骤包括用红外辐射至少泛光照射所述辐射部分。

12.在一种用于提高光波导感光性的方法中，对光波导加载氢气以形成一相关的本底折射率，至少处理一部分加载光波导以改变本底折射率，并且使氢气散离加载光波导，从而稳定本底折射率的被造成的改变，所述改进在于：

至少处理所述经处理的部分，使折射率经稳定的变化改变10^-5以上。

13.一种用权利要求1所述方法制造的光波导，其特征在于，所述第一处理步骤包括用均匀的紫外辐射光束进行照射的步骤。

14.如权利要求13所述的光波导，其特征在于，在扩散步骤之后还包括将一光栅写入所述光波导的步骤。

15.如权利要求14所述的光波导，其特征在于，写入光栅的步骤包括写入FBG器件的步骤或写入LPG器件的步骤。