[发明专利]透镜装置无效

专利信息
申请号: 00803044.8 申请日: 2000-09-21
公开(公告)号: CN1338062A 公开(公告)日: 2002-02-27
发明(设计)人: M·J·J·多纳;J·J·M·布拉尔特 申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: G02B27/22 分类号: G02B27/22;G02B27/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 陈霁,傅康
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 透镜 装置
【权利要求书】:

1.一种透镜装置,包括:

在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列;和

在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列,其中,

该第一和第二阵列如此设置,以致当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案,其特征在于:

至少一个所述阵列包括至少一个预定的可检验的不连续变化,该变化处于对应于该阵列相邻元件的相同特性而言该阵列至少一个元件一特性中。

2.根据权利要求1的透镜装置,其特征在于:至少一个变化包括聚焦强度的变化,由此生成一莫尔图案,其中,在相对于第一表面的不同视在高度上形成图像。

3.根据任一前面权利要求的透镜装置,其特征在于:至少一个变化包括至少两个元件之间间距的变化。

4.根据权利要求4的透镜装置,其特征在于:至少一个间距中的变化沿间距方向周期地产生。

5.根据权利要求3或4的透镜装置,其特征在于:至少一个间距变化被限制来确保其中发生至少一个变化的阵列元件基本设置成规则间隔的阵列,因此生成莫尔图案,其中,对于独立观察者而言,至少一个间距变化是基本分辨不出的。

6.根据权利要求5的透镜装置,其特征在于:由预定顺序中不同数量来改变间距。

7.根据权利要求5或6的透镜装置,其特征在于:阵列中元件的位置因规则间隔阵列而不同,阵列中的大部分元件被适当地设置在规则间隔阵列中。

8.根据任一前面权利要求的透镜装置,其特征在于:设置第一和第二阵列,发生所述至少一个变化,因此生成一莫尔图案,其中,可看到每个都代表所述第二阵列的一个元件的多个放大图像,并且其中,对于独立观察者而言,由至少一个变化引起的放大图像中或之间的改变是可见的。

9.一种透镜装置,包括:

在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列;和

在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列,其中,

该第一和第二阵列如此设置,以致当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案,其特征在于:

至少一个元件包括一个凸起,使至少一个元件具有横截面,该横截面平行于其上形成至少一个元件的表面,该表面具有预定的可检验的形状,与穿过不包括所述凸起的至少一个元件一部分的平行横截面的形状相比,所述形状是不规则的。

10.根据权利要求9的透镜装置,其特征在于:所述元件包括一定义透镜状突起的第一部分和定义所述压纹的第二部分。

11.根据权利要求9或10的透镜装置,其特征在于:第二阵列包括多个元件,每个元件包括基本相同形状的所述压纹,因此,在所述莫尔图案中,压纹的形状是可视的。

12.根据权利要求9或10的透镜装置,其特征在于:所述压纹位于所述第一阵列中,并被设置成对于独立观察者而言是基本上难以分辨的。

13.根据权利要求9至12的任一透镜装置,其特征在于:所述压纹包括一图示图像、一符号和/或字母。

14.一种透镜装置,包括:

在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列,其元件为透镜;和

在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列,其中,

该第一和第二阵列如此设置,以致当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案,其特征在于:

至少一个预定的可检验的缺陷被编码在至少一个第一和第二阵列中,对于独立观察者而言,该缺陷基本上是看不见的。

15.根据权利要求14的透镜装置,其特征在于:所述缺陷彼此对应地位于至少一个阵列的元件间隔中。

16.根据权利要求14的透镜装置,其特征在于:所述缺陷是在第一阵列的一个透镜元件上的标记。

17.根据权利要求14至16的任一透镜装置,其特征在于:缺陷类似地位于每个所述装置中,因此,在缺陷和出现于每个所述装置中的莫尔图案之间存在预定位置关系。

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