[发明专利]砂型的造型装置和方法有效
申请号: | 00802551.7 | 申请日: | 2000-11-02 |
公开(公告)号: | CN1335795A | 公开(公告)日: | 2002-02-13 |
发明(设计)人: | 金藤公一;平田实;波多野丰 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
主分类号: | B22C15/02 | 分类号: | B22C15/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 砂型 造型 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种砂型的造型装置和方法,特别是涉及一种在1个台上将型砂充填到造型空间并压缩以对砂型进行造型的装置和方法。
背景技术
在现有的砂型造型过程中,由以带砂箱的状态进行造型和浇注的铸型造型设备,在空间上分离的不同台上将型砂充填到砂箱和对该充填的型砂进行压缩(例如JP3-35842,A)。在该造型设备中,由于可同时进行型砂对砂箱的充填和对充填到另一砂箱的型砂的压缩,所以,砂型的生产效率变高。然而,在该造型设备中,需要充填台和压缩台,并需要在两台间移动砂箱的时间和能量。另外,需要设置多个输送装置,存在造型装置复杂而且昂贵的问题。
另外,在现有砂型造型中由单一的台进行型砂的充填和压缩时,为了进行压缩,需要将压头水平移动到造型空间,同样,需要设置输送装置,存在造型装置复杂而且昂贵的问题。
本发明为了解决上述问题,提供一种造型方法和造型装置,该造型方法和造型装置可减少砂箱的移动,缩短造型时间循环,并可减少消耗能量。
发明概述
在本发明的造型装置的第1形式中,装有型砂的砂斗的下部设置有多个射砂头,在这些射砂头的横向邻接的位置于砂斗下部设置可进行压力控制的多个压实触头。砂斗由支承装置可自由升降地支承。由带模型的模板、砂箱、余砂框、及具有配置于余砂框上部的多个压实触头的砂斗形成造型空间,从砂斗的射砂头排出型砂,在造型空间中充填型砂,使砂斗朝造型空间下降,由压实触头压缩造型空间内的型砂。通过这样构成造型装置,可在1个台(充填压缩台)将型砂充填到造型空间并对该型砂进行压缩,达到本发明的目的。
在上述形式的1个例中,支承装置保持着砂箱升降。
在上述形式的1个例中,支承装置和砂斗中的任何1个相对砂斗可自由升降地保持余砂框。
通过如这些例子那样构成造型装置,可容易地形成造型空间,另外,可使砂箱位于通过造型装置的充填压缩台的造型流水线(多个砂箱的输送通道)的高度。
本发明的其它形式和优点可通过参照附图和以下实施形式的说明加以理解。
的简单说明
图1a为示出本发明的实施形式的造型装置和输送与该装置相关的铸型的造型流水线的示意侧面图,图1b为图1a的造型装置的示意正面图。
图2为本发明第1实施形式的造型装置的正面图。
图3为图2的造型装置的砂斗的底面图。
图4为图2的造型装置的压实触头的示意断面图。
图5为示出图2的造型装置的砂斗和松砂装置的图。
图6为示出在图2的造型装置中形成造型空间的状态的图。
图7为示出在图6的造型空间中充填型砂的状态的图。
图8为示出压缩图7的造型空间内的型砂的状态的图。
图9为示出从图8所示状态使带砂箱的铸型离开模板并位于造型流水线上的状态的图。
图10为本发明第2实施形式的造型装置的正面图。
图11为示出在图10的造型装置中形成造型空间的状态的图。
图12为示出在图11的造型空间中充填型砂的状态的图。
图13为示出对图12的造型空间内的型砂进行1次压缩的状态的图。
图14为示出从图13所示状态对型砂进一步进行2次压缩的状态的图。
图15为图14的造型装置,示出使带砂箱的铸型离开模板并位于造型流水线上的状态的图。
图16为示出在图15所示充填压缩台送入新的空的砂箱并由输送装置将新的模板配置到充填压缩台的状态的图。
图17为本发明第3实施形式的造型装置的正面图。
图18为示出图17的砂斗的射砂头和压实触头的断面图。
图19为图18的XV-XV线的朝上观看的断面图,示出射砂头和压实触头的排列的图。
图20为示出在图17的造型装置中形成造型空间的状态的图。
图21为示出在图20的造型空间中充填型砂的状态的图。
图22为示出将加压空气导入到图21所示造型空间内对型砂进行预备压缩的状态的图。
图23为由充填压缩装置从图22所示状态对造型空间内的型砂进一步进行压缩的状态的图。
实施发的最佳形式
下面,参照图1说明本发明的造型装置的大体构成,参照图2-图9说明造型装置的第1实施形式,参照图10-图16说明第2实施形式,参照图17-图23说明第3实施形式,在本说明书和附图中对相同的部分使用相同参照编号。
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