[发明专利]确定最佳擦除和写入功率的方法、以及带有使用所述方法的设备的记录装置无效
| 申请号: | 00800301.7 | 申请日: | 2000-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN1296610A | 公开(公告)日: | 2001-05-23 |
| 发明(设计)人: | G·F·周;R·范沃登博格;J·H·M·斯普瑞特 | 申请(专利权)人: | 皇家菲利浦电子有限公司 |
| 主分类号: | G11B7/00 | 分类号: | G11B7/00;G11B7/125 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 罗朋,叶恺东 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 确定 最佳 擦除 写入 功率 方法 以及 带有 使用 设备 记录 装置 | ||
本发明涉及一种确定用于擦除在一种光记录介质中所提供标记的最佳擦除功率的方法,其中,在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的:通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变,其中随着所述辐射脉冲反射的减小,这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及一种确定用于在光记录介质上提供标记的最佳写入功率的方法,其中通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变,其中随着所述辐射脉冲反射的减小,这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及用于根据本发明的其中一种方法的光记录介质,该记录介质是由射线束可刻的,并且包含有其中包括有关所述光记录介质的特性的信息的区域。
本发明还进一步涉及一种记录装置,该装置包括用于确定用于擦除在一种光记录介质中所提供标记的最佳擦除功率的校准装置,其中,在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的:通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变,其中随着所述辐射脉冲反射的减小,这种光学特性的改变变得显著。
本发明还进一步涉及一种记录装置,该装置包括用于确定用于在一种光记录介质中所提供标记所需的最佳写入功率的校准装置,其中,在所述这种光记录介质中是这样提供这些标记的:通过用具有足够高功率的辐射脉冲来局部加热所述记录介质从而导致该记录介质上的光学特性的改变,其中随着所述辐射脉冲反射的减小,这种光学特性的改变变得显著。
本发明还涉及一种在记录装置中所使用的校准装置。
最佳擦除功率和最佳写入功率是依赖于所使用的记录介质的特性以及记录装置的各种特性。因此,只要在记录装置中使用一个给定的记录介质,就应该可以确定这些功率值。
用于确定这些功率值的方法和装置是公知的,尤其是可以从EP0737962(Ricoh有限公司)中可以了解到。该申请描述了一种方法,其中可以参考对于每个记录介质和记录装置的组合是固定的调制功率曲线来确定最佳写入功率。通过在大范围的写入功率(PW)中在记录介质上提供标记并且通过随后检测每个写入功率的相关标记的调制值(m)来确定所述调制功率曲线,该调制值是来自一个标记上的反射功率相对于来自没有标记区域的反射功率的值。可以在调制功率曲线(m(PW))上相对于相关的写入功率来画出因此而获得的调制值。随后,可以确定代表前述调制功率曲线(m(PW))的归一化一阶导数(γ=(dm/dPW)·(PW/m))的曲线(γ曲线)。这条γ曲线具有渐近的变化,在较高的写入功率处仅产生γ的轻微减少。通过选择与导数γ的预定值相关的功率来发现最佳的写入功率。最佳擦除功率随后线性依赖于所发现的最佳写入功率。
不可能从诸如γ曲线这样的渐近变化曲线中确定一个明确的值。输入值的微小改变、γ的预定值都可能导致输出信号即最佳写入功率的较大的变化。另外,当确定调制功率曲线时,使用位于最佳写入功率之上的写入功率从而在记录介质上导致不必要的高温。
本发明的一个目的是提供一种明确确定最佳擦除功率的方法并提供一种明确确定最佳写入功率的方法并能避免在记录介质中产生不必要的高温。
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