[实用新型]现场研磨抛光机无效
申请号: | 00256545.5 | 申请日: | 2000-11-30 |
公开(公告)号: | CN2455442Y | 公开(公告)日: | 2001-10-24 |
发明(设计)人: | 钱远强 | 申请(专利权)人: | 钱远强 |
主分类号: | B24B41/00 | 分类号: | B24B41/00;B24B37/02;B24B39/04;B24B21/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王达佐,陈肖梅 |
地址: | 澳大利亚昆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 现场 研磨 抛光机 | ||
本实用新型涉及一种研磨抛光装置,特别是用于被研磨抛光压辊所在现场的现场研磨抛光机。
目前,在塑胶、造纸、印刷及有色金属薄板轧制等行业中,使用各种大型压辊,这些压辊使用较长时间后,表面光洁度降低,导致产品质量下降。此时,必须停工停产很长一段时间,并花费大量人力与财力,把压辊拆卸下来,进行研磨与抛光。现有的研磨机或镜面抛光机多为单头单功能运行,一般研磨或抛光加工头只能在传动箱的一侧,或左或右,由于受现场空间的限制,不能将压辊的有效长度全磨或全抛,总归留有未能光整的两端。而且研磨石和抛光带不能互换。在用抛光带时,更要规定压辊的运转方向。单头式研磨石或抛光带在工作时,须通过汽缸压在压辊上作水平左右高速往复式移动,此时整个机械会产生巨大的震荡力,影响加工质量,因此研磨机或抛光机必须牢牢地固定在重型机床的机床拖板上,而不可能安装在现场作业的轻型导轨上。
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足和缺陷,提出一种现场研磨抛光机,它可在不拆卸待磨待抛光压辊的情况下,安装在现场的待修设备上,最大限度消除加工时产生的振动力,增加稳定性和可靠性,并且一机两用,只须换用不同的夹具,便可对待修压辊外圆表面就地进行必要的研磨、超精研磨、抛光及镜面抛光等表面光整加工。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。
一种现场研磨抛光机,包括:
双头研磨抛光装置,
移动装置,包括双头研磨抛光装置的固定移动装置和导轨,固定移动装置可以在导轨上移动,
平衡支撑装置,包括两个横向平衡杆、支撑横向平衡杆的可调支撑装置,其中横向平衡杆上安装导轨。
其中所述双头研磨抛光装置包括研磨装置或抛光装置。
其中所述研磨装置包括夹具和由其夹持的研磨石。
其中所述抛光装置包括抛光轮、抛光轮叉头、抛光带、以及收卷抛光带的收放卷装置。
其中收卷抛光带的收放卷装置中包括一个带有单向轴承的快速收卷轮,用于快速顺转卷带。
其中所述双头研磨抛光装置还包括一水平对置的曲柄连杆机构,其两个连杆分别连接对称放置于传动箱左右两旁的振动滑块,作高速反方向振动。
其中所述横向平衡杆的一端通过连接板固定在压辊轴承座的螺栓孔上,另一端连接在可调支撑装置上。
其中可调支撑装置包括支撑脚、调整螺杆和与之连接的支撑杆。
所述现场研磨抛光机,还包括位于导轨两头的螺杆和撑脚,将导轨支撑在设备两边的壁上。
本实用新型的优点是它克服了现有技术的不足和缺陷,可在不拆卸待磨待抛光压辊的情况下,安装在现场的待修设备上,最大限度地消除了加工时产生的振动力,增加了稳定性和可靠性,并且一机两用,只须根据需要换用研磨装置和抛光装置,便可对待修压辊外圆表面就地进行必要的研磨、超精研磨、抛光及镜面抛光等表面光整加工,使用它可改善加工质量,提高工作效率,大大减少人力财力。
附图简要说明:
图1是本实用新型用于抛光时的总体侧向示意图;
图2是本实用新型未装双头研磨抛光装置时的俯视示意图;
图3是配研磨石的研磨抛光装置的侧视图;
图4是图3的俯视图;
图5是配抛光轮抛光带的研磨抛光装置的侧视图;
图6是图5的俯视图;
图7是两个抛光轮向内振动被曲柄连杆机构抵消的示意图;
图8是两个抛光轮向外振动被曲柄连杆机构抵消的示意图。
下面结合附图详细介绍本实用新型的实施例。
如图1和图2所示,一种现场研磨抛光机,安装在待研磨压辊1所在设备的一侧,它包括:
双头研磨抛光装置2,
移动装置,包括双头研磨抛光装置的固定移动装置23和导轨3,固定移动装置23可以在导轨3上移动,
平衡支撑装置,包括两个横向平衡杆4和支撑横向平衡杆的两个可调支撑装置,横向平衡杆4上安装导轨3。
所述横向平衡杆4的一端通过连接板14固定在压辊轴承座15的螺栓孔16上,另一端通过螺栓直接连接在可调支撑装置的顶部。
所述可调支撑装置包括支撑脚17、调整螺杆18和与之螺纹连接的支撑杆18’,支撑脚17支在地面22上。
在图2中还可见,所述位于导轨3两头的两个支撑装置包括与导轨3上的螺孔连接的螺杆19和撑脚20。通过拧紧螺杆19将撑脚20紧紧地固定在壁21上,从而把导轨3支撑在设备两边的壁21上。
所述双头研磨抛光装置2包括研磨装置或抛光装置。根据需要可以分别使用其中之一,研磨时使用研磨装置,抛光时使用抛光装置。
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