[实用新型]弱限制多模光干涉器

说明书

本实用新型涉及一种干涉器件，特别是一种光干涉器件。

多模光干涉器是由光干涉区、输入光波导和输出光波导构成。在光功分器、光开关、波分复用器等器件中的应用前景十分广泛。目前，多模光干涉器是将光波导边界近似视为镜面反射，通称强限制多模光干涉器。该干涉器由于干涉区内模式过多，高阶模失配相当严重，造成损耗、均匀度及带宽等指标都不理想，一般的光波导路数只能在8路以下，这在现代通信系统中使用是有缺陷的。

本实用新型的目的是提供一种适应现代通信系统要求的光波导路数超过8路的多模光干涉器。

本实用新型的目的是通下述措施实现的：在由光干涉区、输入光波导和输出光波导构成的多模光干涉器的外层增设一层包层，其折射率比芯层折射率小0.005～0.2。折射率相差多少是根据光干涉区的宽度决定的。光干涉区的宽度越宽，输出光波导能做的越多。

本实用新型由于外层有一层折射率比芯层折射率稍小的包层，因此具有以下优点：①损耗小，如实现1×32光功分器时也只有0.09dB的损耗，而强限制光干涉器的损耗为0.8dB；②均匀度高，如1×32光功分器的均匀度为0.08dB，而强限制光干涉器的均匀度则为5.6dB；③带宽及工作波长范围大，由于光干涉区内模式少，带宽和工作波长范围比强限制多模光干涉器提高1倍以上；④光波导路数能达64路以上。

以下结合附图对本实用新型作进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

参照图1，以1×32路多模光干涉器为实施例：

①制作掩膜版，其干涉区2为320.0×4630.9μm²，以及一路输入光波导1和32路输出光波导3的图形；②在铌酸锂(LiNbO³)基片上蒸铝，然后用上述掩膜版光刻出1×32路多模光干涉器的图形，再将芯层所在位置的铝腐蚀掉；③进行质子交换，形成折射率为2.22的芯层；④退火，腐蚀掉剩下的铝，并作端面抛光。