[实用新型]立式烤箱基材转向结构无效

专利信息
申请号: 00201181.6 申请日: 2000-01-28
公开(公告)号: CN2427073Y 公开(公告)日: 2001-04-25
发明(设计)人: 李俊欣;罗楹栋;黄焕祺 申请(专利权)人: 亚泰金属工业股份有限公司
主分类号: A21B3/00 分类号: A21B3/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 姜丽楼
地址: 台湾省桃园县杨*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 立式 烤箱 基材 转向 结构
【说明书】:

实用新型涉及一种改进立式烤箱基材转向结构,具有不会造成基材本身或表面受破坏的功效,而且不会污染输送装置。

现有辐射加热或热风加热立式烤箱为达到烤箱上端入出口基材转弯的动作,基材于含浸树脂后的干燥及硬化过程中,基材表面如果必须接触输送装置(例如金属滚轮1-3支)时,必须降低基材的温度到80℃以下,才不会破坏基材本身的物理特性,且将基材重量及张力转嫁到输送装置来承担。如果基材本身含有或表面涂有树脂或粘性物质,在操作不正常时,比如基材温度太高软化或涂料太多,可能污染输送装置并破坏基材本身或表面。通常基材在立式烤箱上端出口转弯时,必须先降低本身的温度,待通过转弯机构后再重新加温。这种操作方法在能源的有效利用和生产效率等方面都不甚理想。

本实用新型的目的在于提供一种改进的立式烤箱基材转向结构,可借空气垫的功能而使得基材能克服本身悬垂(1-30公尺高)重量及基材运动中产生的张力(2-40kg/m),将基材悬浮于转弯输送装置的表面上,以使不会造成基材本身或表面受破坏或污染。

为达到上述目的,本实用新型采取了以下技术方案。

改进的立式烤箱基材转向结构,主要于立式烤箱输送装置设置能产生气垫功能的气垫装置,利用高压气体(20-300℃)由喷嘴吹向基材,使得基材悬浮于输送装置表面上,克服重力及张力因素后,进行转弯的动作;由于基材表面不会接触任何输送装置,具有不会造成基材本身或表面受破坏的功效。

本实用新型立式烤箱基材转向结构还可以做进一步改进。即在输送装置适当位置处另设有产生热能的加热装置,其热能包括辐射热或热风,以调节基材本身的温度,一般在100-250℃范围内,正常操作约180℃。由于基材不接触输送装置本体,因此可以把基材本身维持于高温状态,让树脂提早产生化学硬化反应,这样可以提高基材的生产效率约50-150%。

综上所述,与现有技术相比较,本实用新型具有明显的优点:能够克服基材本身自重及基材运动时产生的张力,使得基材因气垫作用而悬浮于输送装置的表面进行转弯动作;由于运动中的基材表面不会接触到任何输送装置本体,不会造成基材本身或表面受污染或破坏;且由于运动中的基材在转弯时不会接触任何输送装置,使得生产中的基材的物理及化学特性可以改进,提高生产效率50-150%,提高设备的利用率,降低能源损耗。

下面通过一实施例并配合附图,对本实用新型的结构特点及所达到的功效做进一步说明。

图1为现有立式烤箱组合立体图。

图2为本实施例中立体烤箱组合立体图。

上述图中标号说明如下:

1′-烤箱      2′-输送装置(1-3支金属滚轮)

3′-密闭箱    4′-基材

5′-冷却箱    6′-压力箱

1-烤箱

2-输送装置    20-气垫装置

3-密闭箱      30-加热装置

4-基材

在生产电路基板内层绝缘材料的应用,当基材表面接触到输送装置之前时,基材表面温度必须降低到接近室温,离开立式烤箱出口时为150-180℃,才能使基材表面接触到输送装置时不至于受到破坏。因此,基材离开第一段烤箱出口后,必须先经过冷却,然后才能接触输送装置。经输送装置的辅助,完成基材转弯的动作,然后基材离开输送装置,进入下一道烤箱烘烤的程序。请参阅图1现有烤箱的组合立体图,由图可知现有技术中,基材4离开烤箱1之后,先经过6压力箱隔离,并防止烤箱1内部高温热空气上升再经过冷却箱5以低于室温的冰冷空气吹基材4,让基材4表面温度降到接近室温,然后再接触由1-3根冷却滚筒组成的输送装置2,完成基材4转弯的动作,然后基材4进入另一个烤箱。为了隔离烤箱1与冷却箱5的温度,中间必须设置一只压力箱6。为了增加基材与输送装置2的冷却效果及防止空气中粉尘的污染,可设置一个密闭箱3,并且灌入冷空气或由温、湿度控制的空气。由上可知,现有技术烤箱的基材4表面必须接触输送装置2,将自重及张力转嫁到输送装置2来承担。由于该基材4本身已涂上了高分子树脂,如操作不当时会污染输送装置,并且破坏基材本身或表面。由该图也可明确了解基材本身经过加热、冷却、再加热的制造流程,确实不符合能源充分利用的生产效益,而且生产速度也不高。

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