[发明专利]含有聚集染料的辐射敏感材料和照相材料

权利要求书

1．一种辐射敏感材料，其特征在于它含有下式(Ⅰ)的聚集染料：其中X是氧或硫；R¹-R⁴各自独立地代表未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基或未取代或取代的杂芳基，其中所述烷基为含有1-6个碳原子的烷基，芳基包括苯基、萘基、蒽基和苯乙烯基，杂芳基包括吡啶基、噻吩基、呋喃基和吡咯基，而酰基包括乙氧基甲酰基、酰氨基、苯甲酰基、羧基和乙酰基；L¹、L²和L³各自独立的代表取代或未取代的次甲基；M⁺代表质子或无机或有机阳离子；n是0、1、2或3，其中聚集染料具有小于55nm的吸收半谱带宽度。

2．根据权利要求1的辐射敏感材料，其中结构式(Ⅰ)的聚集染料是式(Ⅱ)的染料：其中R¹-R⁴和M⁺如权利要求1所定义，R⁵代表氢原子或未取代或取代的烷基、芳基或酰基，所述烷基、芳基和酰基如权利要求1所定义。

3．根据权利要求1的辐射敏感材料，其中结构式(Ⅰ)的聚集染料是式(Ⅲ)的染料：其中R¹-R⁴、X和M⁺如权利要求1所定义，R⁵代表氢原子或未取代或取代的烷基、芳基或酰基，所述烷基、芳基和酰基如权利要求1所定义。

4．根据权利要求1、2或3的辐射敏感材料，其中R¹和R²中的每一个独立地是未取代或取代的烷基、芳基或杂芳基，所述烷基、芳基和杂芳基如权利要求1所定义；R³和R⁴是氢原子，R⁵是氢原子或甲基或乙基。

5．根据权利要求4的辐射敏感材料，其中R¹和R²中的每一个独立地是未取代的苯基或被下列的取代基取代的苯基：卤原子或羟基、羧基、烷基、烷氧基、酰基、氰基或-NHSO₂CH₃。

6．一种照相材料，该材料包括承载至少一层光敏感层的基质层，并含有式(Ⅰ)的聚集染料：其中X、R¹-R⁴、L¹、L²、L³、M⁺和n如权利要求1所定义，其中聚集染料具有小于55nm的吸收半谱带宽度。

7．根据权利要求6的照相材料，其中所述的聚集染料是式(Ⅱ)的染料：其中R¹-R⁴、M⁺和R⁵如权利要求2所定义。

8．根据权利要求6的照相材料，其中所述的聚集染料是式(Ⅲ)的染料：其中R¹-R⁴、X、M⁺和R⁵如权利要求3所定义。

9．根据权利要求6、7或8的照相材料，其中R¹和R²中的每一个独立地是未取代或取代的烷基、芳基或杂芳基，所述烷基、芳基和杂芳基如权利要求1所定义；R³和R⁴是氢原子，R⁵是氢原子或甲基或乙基。

10．根据权利要求9的照相材料，其中R¹和R²中的每一个独立地是未取代的苯基或被下列的取代基取代的苯基：卤原子或羟基、羧基、烷基、烷氧基、酰基、氰基或-NHSO₂CH₃。

11．根据权利要求10的照相材料，该材料包括至少两层光敏感层，另外还包括一层非光敏感层，其中所述的聚集染料位于所述的非光敏感层中。

12．根据权利要求11的照相材料，其中所述的聚集染料位于两个光敏感层之间的夹层中或消晕层中。