[发明专利]一种高分子水处理药剂与磁场共用使用的水处理方法无效
| 申请号: | 00110394.6 | 申请日: | 2000-05-11 |
| 公开(公告)号: | CN1323752A | 公开(公告)日: | 2001-11-28 |
| 发明(设计)人: | 马伟;郭丽燕 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
| 主分类号: | C02F9/12 | 分类号: | C02F9/12;//;166;152;148) |
| 代理公司: | 沈阳杰克专利事务所 | 代理人: | 罗洪杰 |
| 地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高分子 水处理药剂 磁场 共用 使用 水处理 方法 | ||
一种高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法。
本发明涉及水的处理方法,特别是工业设备循环用水、供暖用水、农业用水的净化以及工业废水的处理方法。
目前,水处理方法经过多年研究,已经形成了许多种类的处理技术,有物理、化学、生物以及综合处理技术。在工业设备循环用水、供暖用水和农业用水的净化处理中,物理法多采用离子交换、过滤、电场、磁场和光处理等方法,当水质污染比较严重时,这些方法的处理效果不稳定;化学法需要加入大量的化学药剂,且各种药剂的投入本身也带来水质二次污染。同时,为解决结垢、腐蚀和细菌藻类等问题所加入的药剂之间也会相互影响,产生副作用而影响综合处理效果。有关废水处理多采用物理-化学-生物综合处理技术,该方法投资多,设施大,运行费用高。申请号93110046.1发明专利公开了一种磁场处理与化学处理共同作用的水处理方法与装置。该方法针对设备用水,采用的是在水处理前加入碱性物质NaOH或Na2CO3,将水质调至pH值为7.5~11.5,硬度值小于7mg/L,再经过磁场处理,达到防止设备结垢,有助于防腐的目的。但这种方法没有净化除杂过程,所以不适合污染严重、含杂较高的工业废水的处理,从而达不到再次使用目的。这种方法对防腐的有益作用仅是由于加入碱性物质,降低了水溶液的酸性所致,因而该方法的应用范围受到一定的限制。
本发明目的在于提供一种效果稳定,污染小,运行方便,投资少,应用范围广的水处理方法。
本发明目的通过以下技术方案来实现:
采用高分子水处理药剂与磁场共同作用,根据水质具体情况加入无机或有机高分子水处理药剂或二者共同使用,在磁场作用下混凝后,经过的砂滤净化得到的出水,再经过磁场赋磁后与溶液中溶解的小分子基团协同作用,最终达到为各种设备提供用水的目的。本发明的特征是磁场处理和高分子药剂之间具有相互强化的协同作用。
为达到较佳的处理效果,首先对原水的水质中固体悬浮物、金属离子、有机物和细菌藻类进行分析,并结合用水的水质要求,确定药剂的加入量,磁场作用强度和具体工艺。
加入的无机高分子药剂可以是铝、铁的聚合物或铝铁的共同聚合物;有机高分子可用天然植物改性高分子或具有多糖、酰胺、硅氧等基团的复配高分子及类似的分子量分布在十万到一百万的高分子药剂。
对于用水要求偏酸性的可适当提高无机高分子用量,根据不同的水质可以有不同的加入范围,通常在1mg/L~10mg/L范围内;对于
用水要求为偏碱性的情况,可以适当提高有机高分子药剂的加入量,一般在0.1mg/L~2mg/L范围内。
与现有技术相比的积极效果:
首先是高分子药剂在磁场协同作用下的混凝过程,这将有利于水体中的悬浮物、金属离子和细菌藻类物质与高分子中分子量较大部分基团形成絮体,经过滤后除去。高分子中分子量较小的基团溶解于水体中,在磁场的协同作用下与钙离子络合,起到阻垢作用,且还在金属管道的表面形成含有铁离子的致密化合物薄膜起到缓蚀作用,所以本发明具有净化、阻垢、杀菌除藻和缓蚀效果,由于降低了化学药剂的加入量,减少了对环境的危害程度。
图1是本发明的工艺流程图,其说明可参见给出的实施例。
实施例1:废水处理作为工业给水某冶炼厂废水主要成分(mg/L):COD:300;pH=7.6;重金属离子>23mg/L;浊度52NTU。
加入药剂聚合硫酸铁8mg/L,天然植物高分子改性药剂CMS或CGA3mg/L,经过0.4T的磁场,流量5ml/min处理后,搅拌20分钟,静止20分钟,过滤后上清液浊度1.6NTU,COD:45,重金属离子<0.06mg/L,pH值为8.3。再进行0.5T的磁场处理。最后测试结果为:阻垢率92%,杀菌率93%,缓蚀率97%,符合工业循环水的规范,可作为工业设备冷却水使用。实施例2:地面水处理作为工业给水原地面水:pH值为7.06;浊度8.2 NTU;藻类230万个。试验药剂加入量为:无机高分子药剂为聚合氯化铝2mg/L~10mg/L,有机高分子药剂为聚丙烯酰胺与活性硅酸1∶1复配0.1mg/L~2mg/L,磁场处理强度为0.1~0.8T。过滤后水的pH值大于8,再经0.5T磁场处理,试验结果见表1:表1:实验净化效果
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