[发明专利]抗菌自洁性涂膜组合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种抗菌自洁性涂膜组合物，其特征是所述组合物是水溶性的胶体溶液，含有粒径小于50nm的二氧化钛(TiO₂)光半导体颗粒、高钛酸(H₄TiO₅)；其中TiO₂含量为0.25—10％，H₄TiO₅含量为0.13—4％，TiO₂/H₄TiO₅含量比为0.3—6。

2.权利要求1所述的抗菌自洁性涂膜组合物，其特征是TiO₂的优选含量为1—4％，H₄TiO₅的优选含量为0.5—2％，TiO₂/H₄TiO₅的优选含量比为1—4；该组合物中TiO₂的最佳含量为TiO₂2％，H₄TiO₅1％，TiO₂/H₄TiO₅的最佳含量比为2。

3.权利要求1所述的抗菌自洁性涂膜组合物的制备方法，其特征是制备方法为如下步骤：

(1)将钛盐化合物在碱性条件下经过水解后制备出钛酸(H₄TiO₄)；

(2)将钛酸与含有过氧化氢的水溶液反应制成含有钛酸和高钛酸的水溶液；

(3)加热搅拌处理上述水溶液，促进粒径小于50nm的TiO₂光半导体颗粒的形成。

4.权利要求3所述的抗菌自洁性涂膜组合物的制备方法，其中所述钛盐化合物可从硫酸钛，四氯化钛，硝酸钛及有机钛化合物中选择。

5.权利要求1所述的抗菌自洁性涂膜组合物的应用，其特征是用于材料表面涂膜处理，从而获得抗菌、自洁功能。