[发明专利]形成透明导电膜的方法以及采用该方法形成的透明导电膜无效
| 申请号： | 00106012.0 | 申请日： | 2000-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1269609A | 公开（公告）日： | 2000-10-11 |
| 发明（设计）人： | 和田俊司;矢川博士;峰尾元久;青木裕一;筑后了治;吉井明彦 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社;住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;G02F1/133;H01B5/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 透明 导电 方法 以及 采用 | ||
【权利要求书】：
1.一种制造透明导电膜的方法，包括以下步骤：
1)将置于阳极相对位置的基片的温度设置在不高于130℃；
2)由构成阴极的放电等离子体发生装置生成等离子束，将该等离子束引导到所述阳极，从而使容纳在阳极中的蒸发材料蒸发并且使被蒸发材料的微粒离子化，由此在基片的表面上形成透明导电膜；且，
3)将由此形成的透明导电膜置于不低于180℃的温度下进行热处理。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述步骤3)中热处理温度的上限为240℃。
3.如权利要求1所述的方法，其中，所述步骤3)中热处理所进行的时间为30至60分钟。
4.一种如权利要求1所述的方法形成的透明导电膜，其中，该透明导电膜具有230μΩ·cm或更小的比电阻和0.35GPa或更低的膜压应力。
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