[发明专利]用于光掩膜自动故障检测的改进的系统和方法

权利要求书

1、一种检测光掩膜的方法，包括以下步骤：

提供一组制造光掩膜的设计数据组；

搜索该设计数据组，找出亚基本规格特征；

从所述的数据组消除这些亚基本规格特征，形成一个检测数据组，及

采用这组检测数据，依据所述的设计数据组检测所制造的光掩膜。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于亚基本规格特征包括亚基本规格空隙，所述消除亚基本规格特征的步骤还包括并合位于所述空隙附近的设计数据组的特征，从而消除在所述检测数据组中的所述空隙的步骤。

3、根据权利要求2所述的方法，其特征在于并合特征的步骤包括采用一个偏移过程实现并合特征。

4、根据权利要求1所述的方法，其特征在于光掩膜包括亚基本规格线，所述消除亚基本规格特征的步骤还包括从所述的设计数据组除去亚基本规格特征的步骤，从而提供所述的检测数据组。

5、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述搜索该设计数据组，找出亚基本规格特征的步骤包括根据预定的特征尺寸标准搜索该设计数据组，从而找出亚基本规格特征的步骤。

6、根据权利要求1所述的方法，其特征在于采用所述检测数据组，依据所述的设计数据组检测制造的光掩膜的步骤包括调节一个检测工具的灵敏度，扫描所述的亚基本规格特征的步骤。

7、根据权利要求1所述的方法，其特征在于为制造光掩膜提供设计数据组的步骤包括利用计算机辅助数字图像生成所述的光掩膜的步骤。

8、一种检测光掩膜的方法，包括以下步骤：

提供一组制造光掩膜的设计数据组；

识别在所述的设计数据组中满足预定尺寸标准的亚基本规格特征；

从所述的设计数据组中消除已被识别出的亚基本规格特征，形成一个检测数据组；

提供一个检测工具，将依据设计数据检测所制造的光掩膜与检测数据组的数据进行比较；

调节所述的检测工具，对识别出的亚基本规格特征扫描；及

采用这组检测数据检测所制造的光掩膜。

9、根据权利要求8所述的方法，其特征在于所述的亚基本规格特征包括亚基本规格空隙，所述消除亚基本规格特征的步骤还包括并合位于所述空隙附近的设计数据组的特征，从而消除在所述检测数据组中的所述空隙的步骤。

10、根据权利要求9所述的方法，其特征在于并合特征的步骤包括采用一个偏移过程实现并合特征。

11、根据权利要求8所述的方法，其特征在于光掩膜包括亚基本规格线，所述形成检测数据组的步骤还包括从所述的设计数据组除去亚基本规格特征的步骤，从而提供所述的检测数据组。

12、根据权利要求8所述的方法，其特征在于所述搜索该设计数据组，找出亚基本规格特征的步骤包括根据预定的特征尺寸标准搜索该设计数据组，从而找出亚基本规格特征的步骤。

13、根据权利要求8所述的方法，其特征在于为制造光掩膜提供设计数据组的步骤包括利用计算机辅助数字图像生成所述的光掩膜。

14、一个程序存储器可由计算机读出，其中的程序指令可由计算机执行，实现检测光掩膜的方法步骤，所述方法步骤包括：

提供制造光掩膜的设计数据组；

搜索该设计数据组，找出亚基本规格特征；

从所述的数据组消除这些亚基本规格特征，形成一个检测数据组；

采用所述检测数据组，依据设计数据检测所制造的光掩膜。

15、根据权利要求14所述的程序存储器，其特征在于所述的亚基本规格特征包括亚基本规格空隙，所述消除亚基本规格特征的步骤还包括并合位于所述空隙附近的设计数据组的特征，从而消除在所述检测数据组中的所述空隙的步骤。

16、根据权利要求15所述的程序存储器，其特征在于并合特征的步骤包括采用一个偏移过程实现并合特征的步骤。

17、根据权利要求14所述的程序存储器，其特征在于光掩膜包括亚基本规格线，所述形成检测数据组的步骤还包括从所述的设计数据组除去亚基本规格特征，从而提供所述的检测数据组的步骤。