[发明专利]形成导电图案和制备陶瓷多层基材的方法有效
| 申请号: | 00104855.4 | 申请日: | 2000-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN1270494A | 公开(公告)日: | 2000-10-18 |
| 发明(设计)人: | 久保田正博;伊波通明;渡边静晴 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K1/02;G03F7/004 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 形成 导电 图案 制备 陶瓷 多层 基材 方法 | ||
1.一种形成导电图案的方法,该方法包括以下步骤:
在载体上施涂光敏性导电浆料,所述光敏性导电浆料包含具有酸性官能团的有机粘合剂、光敏性有机组分、多价金属粉末和选自以下物质组中的至少一种物质:(a)沸点约为178℃或更高的一元醇化合物;(b)能够吸附有机粘合剂中的阴离子的阴离子吸附用物质和(c)触变剂;
通过光敏性导电浆料的曝光和显影形成预定的导电图案;和
将形成于载体上的导电图案转印到基材上。
2.如权利要求1所述的形成导电图案的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述一元醇。
3.如权利要求2所述的形成导电图案的方法,其中所述一元醇选自双丙甘醇一甲醚、庚醇和辛醇。
4.如权利要求1所述的形成导电图案的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述阴离子吸附用物质。
5.如权利要求4所述的形成导电图案的方法,其中所述阴离子吸附用物质是羟基磷灰石。
6.如权利要求1所述的形成导电图案的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述触变剂。
7.如权利要求6所述的形成导电图案的方法,其中所述触变剂是以平均粒度约为0.01-50微米的微粒形式存在。
8.如权利要求7所述的形成导电图案的方法,其中所述触变剂是氢化蓖麻油。
9.如权利要求1所述的形成导电图案的方法,其中多价金属粉末是选自铜、铝、钯、镍和铁中的至少一种金属或者它们的合金的粉末。
10.一种制备陶瓷多层基材的方法,该方法包括以下步骤:
在载体上施涂光敏性导电浆料,所述光敏性导电浆料包含具有酸性官能团的有机粘合剂、光敏性有机组分、多价金属粉末和选自以下物质组中的至少一种物质:(a)沸点约为178℃或更高的一元醇化合物;(b)能够吸附有机粘合剂中的阴离子的阴离子吸附用物质和(c)触变剂;
通过光敏性导电浆料的曝光和显影形成预定的导电图案;
将形成于载体上的导电图案转印到陶瓷生坯片上;和
将多块具有导电图案的陶瓷生坯片叠放起来,烧制所得的叠层件。
11.如权利要求10所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述一元醇。
12.如权利要求11所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中所述一元醇选自双丙甘醇-甲醚、庚醇和辛醇。
13.如权利要求10所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述阴离子吸附用物质。
14.如权利要求13所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中所述阴离子吸附用物质是羟基磷灰石。
15.如权利要求10所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中选自所述物质组中的物质是所述触变剂。
16.如权利要求15所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中所述触变剂是以平均粒度约为0.01-50微米的微粒形式存在。
17.如权利要求16所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中所述触变剂是氢化蓖麻油。
18.如权利要求10所述的制备陶瓷多层基材的方法,其中多价金属粉末是选自铜、铝、钯、镍和铁中的至少一种金属或者它们的合金的粉末。
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