[发明专利]电子束曝光系统及其方法

权利要求书

1.一种具有掩膜的散射角限制型电子束曝光系统，该所述掩膜包含一个散射区和一个限制孔阑，该孔阑可控制通过掩膜的散射电子的量，所述系统包含：

第一限制孔阑，固定在交叠面或其附近，并具有一个中心开孔和围绕中心开孔的闭合细长开孔；及

第二限制孔阑，其可沿光轴移动并具有一个中心开孔和围绕中心开孔的闭合细长开孔。

2.根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统，其特征在于掩膜包含由形成在可发射电子束膜上的电子束散射体构成的图形。

3.根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统，其特征在于掩膜具有一个开孔图形，该图形由在其比电子穿透深度薄的区域中的开孔构成。

4.根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统，其特征在于包含：

限制孔阑改变件，其中设置或生产多个与围绕中心开孔的闭合细长开孔的尺寸不同的限制孔阑；及

一个机制，其可通过控制限制孔阑改变件而将多个限制孔阑中所需的一个孔阑作为第一限制孔阑设置在光学系统中。

5.根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统，其特征在于该系统还包含：

限制孔阑(A)，其固定在光学系统中并只在其中心具有开孔，用于代替第一限制孔阑；

限制孔阑改变件，其中设置或生产多个在其中心具有彼此不同尺寸开孔的限制孔阑(B)，且开孔大于限制孔阑(A)的外径；及

一个机制，其可通过控制限制孔阑改变件而将多个限制孔阑(B)中所需的一个限制孔阑(B)设置在限制孔阑(A)的轴上。

6.根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统，其特征在于该系统包含：

第一限制孔阑改变件，其包含多个限制孔阑(A)，该孔阑只在它们的中心具有开孔，且外径彼此不同，用于代替第一限制孔阑；

第二限制孔阑改变件，其中设置或生产多个在其中心具有彼此不同尺寸开孔的限制孔阑(B)，且开孔大于限制孔阑(A)的外径；及

一个机制，其可通过控制第一和第二限制孔阑改变件而将多个限制孔阑(A)中所需的一个限制孔阑(A)和将多个限制孔阑(B)中所需的一个限制孔阑(B)设置在光学系统中的同一个轴上。

7.一种具有掩膜的散射角限制型电子束曝光系统，所述掩膜包含一个散射区和一个限制孔阑，该孔阑可控制通过掩膜的散射电子的量，其中该孔阑包含一个中心开孔和一个围绕中心开孔的闭合细长开孔，该系统包含：

限制孔阑改变件，其中设置或生产多个与闭合细长开孔的尺寸不同的限制孔阑；及

一个机制，其可通过控制限制孔阑改变件而将多个限制孔阑中所需的一个孔阑设置在光学系统中。

8.一种散射角限制型电子束曝光系统，其具有一个掩膜，该掩膜包含一个散射区和一个限制孔阑，该孔阑限制通过掩膜的散射电子的量，该系统还包含：

固定在光学系统中的并只在其中心具有开孔的第一限制孔阑；

限制孔阑改变件，其中设置或生产多个在其中心具有彼此不同尺寸开孔的第二限制孔阑，且开孔大于第一限制孔阑的外径；及

一个机制，其可通过控制限制孔阑改变件而将多个第二限制孔阑中所需的一个第二限制孔阑设置在第一限制孔阑的轴上。

9.一种散射角限制型电子束曝光系统，其具有一个掩膜，该掩膜包含一个散射区和一个限制孔阑，该孔阑限制通过掩膜的散射电子的量，该系统还包含：

第一限制孔阑改变件，其包含多个第一限制孔阑，该孔阑只在它们的中心具有开孔，且外径彼此不同；

第二限制孔阑改变件，其中设置或生产多个在其中心具有彼此不同尺寸开孔的第二限制孔阑，且开孔大于第一限制孔阑的外径；及

一个机制，其可通过控制第一和第二限制孔阑改变件而将多个第一限制孔阑中所需的一个第一限制孔阑和将多个第二限制孔阑中所需的一个第二限制孔阑设置在光学系统中的同一个轴上。

10.一种使用根据权利要求1所述的散射角限制型电子束曝光系统的散射角限制型电子束曝光方法，该方法包含如下的步骤：

沿光轴移动第二限制孔阑，只要限制孔阑不挡住电子束的与掩膜上图形的最外边周的图案相对应的轨迹的中心即可，以调节通过第一和第二限制孔阑的开孔的散射电子的量，用于控制修正剂量，并在进行图形曝光的同时对邻近效应进行修正。