[实用新型]六边形硅片镀膜设备的石墨载板结构有效

申请号：	201820352667.1	申请日：	2018-03-15
公开（公告）号：	CN208308957U	公开（公告）日：	2019-01-01
发明（设计）人：	樊华;吴俊清;从海泉;王万领	申请（专利权）人：	东方环晟光伏（江苏）有限公司
主分类号：	C23C16/458	分类号：	C23C16/458;H01L31/18
代理公司：	南京天华专利代理有限责任公司 32218	代理人：	刘畅;徐冬涛
地址：	214203 江苏省***	国省代码：	江苏;32
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摘要：	本实用新型公开了一种六边形硅片镀膜设备的石墨载板结构，所述石墨载板具有多个石墨框单元，其特征在于所述石墨框单元呈行列排布，各石墨框单元均呈倒置的正六棱台结构，正六棱台的上底边(1)为石墨边框，正四棱台的六个侧面(2)均为石墨板，正六棱台的上底至下底中空形成空腔(4)；硅片(5)的边长介于上底边(1)与下底边(3)的边长之间，硅片(5)卡置于正六棱台的侧面(2)上。生产太阳能电池板的过程中，将硅片经过含本实用新型的PECVD上、下镀膜一体设备后，由于硅片与石墨侧面紧密贴合无缝隙，故制得的电池片正面无白边、无支点印，背面无绕镀，电池片正背面颜色均匀一致。
搜索关键词：	硅片石墨载板六棱台石墨框本实用新型六边形硅片镀膜石墨上底边边长侧面太阳能电池板正六棱台结构边框电池片正面紧密贴合行列排布颜色均匀一体设备正四棱台倒置电池片石墨板无缝隙下底边正背面支点印中空白边镀膜空腔背面生产
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【主权项】：

1.一种六边形硅片镀膜设备的石墨载板结构，所述石墨载板具有多个石墨框单元，其特征在于所述石墨框单元呈行列排布，各石墨框单元均呈倒置的正六棱台结构，正六棱台的上底边(1)为石墨边框，正四棱台的六个侧面(2)均为石墨板，正六棱台的上底至下底中空形成空腔(4)；硅片(5)的边长介于上底边(1)与下底边(3)的边长之间，硅片(5)卡置于正六棱台的侧面(2)上。

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摘要：本发明给出了一种菱形硅片载片舟的冷却装置；包括底座、风冷组件、两个支架和若干销轴；两个支架分别固定连接在底座上端面两侧，若干销轴分为两组，两组销轴分别固定在两个支架上，两组销轴相对布置，两组轴销与载片舟的底部配合且两组轴销用于支撑载片舟；风冷组件包括若干风冷管，风冷管一端与气源连接，风冷管另一端封闭，风冷管表面开有若干风冷孔，所述风冷孔对准载片舟上的菱形硅片。若干销轴支撑载片舟，气源向风冷组件的风冷管输送冷风介质，再从风冷孔吹出对载片舟上的菱形硅片进行冷却，加速了对菱形硅片的冷却作业，提升了工作效率。

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摘要：一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，包括托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。组合式衬底基座采用三段式分体结构，这使得可以对托盘的结构进行细微的调整，从而精细的研究托盘结构的变化对实验的影响程度，提高实验的精确性和可靠性。

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摘要：本实用新型公开一种适用于超大规模原子层沉积设备的载具，包括两底板和两侧板围成的载具框架，晶圆放置在两侧板之间，两侧板的相对侧上分别设置有若干齿槽，两侧板上的齿槽一一对应，且相对应的两齿位于同一平面；两侧板上相对应的两齿槽承载两片晶圆，两片晶圆的待镀膜一侧侧向外，另一侧相互贴合。本实用新型的载具结构简单，减少反应物和非ALD镀膜处理面的接触，进而减少绕镀，提高光伏电池的转化效率和使用寿命。

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摘要：本发明公开了一种化学气相沉积优化腔室。所述化学气相沉积优化腔室包括：沉积腔壁，所述沉积腔壁设有保温层，所述保温层保证沉积腔室内的温度均匀性；石墨基座，所述石墨基座用于传热以及放置衬底；喷淋头，所述喷淋头用于输运原料气体，使膜层沉积均匀；电阻加热器，所述电阻加热器用于加热石墨托盘，为沉积提供能量；中心旋转轴，所述中心旋转轴固定在石墨圆基座轴心。本发明解决了大炉体沉积膜层不均匀的问题，通过电阻加热器对石墨托盘加热，使每片衬底均匀受热。并且本发明在反应腔室设置喷淋头，能够改善原料气体在衬底上方的输运均匀度。

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申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本发明是一种化学气相均匀沉积炉，包括炉体、加热装置、进气装置。炉体内安装有专用的内筒腔体连接着进气系统。本发明通过改进沉积腔室，增加气体喷淋装置、底部加热装置以及衬底的旋转系统提升了薄膜沉积的均匀性节省了材料；所述炉体底部有废气出口，用于后续的废气处理。

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申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本发明提供一种衬底支撑板和包含其的薄膜沉积设备。所述衬底支撑板可防止衬底的后表面上的沉积且可易于卸载所述衬底。所述衬底支撑板可包含：衬底安装部分；以及外围部分，其围绕所述衬底安装部分，且所述衬底安装部分的顶部表面的边缘部分可经阳极氧化，且所述衬底安装部分的所述顶部表面的中心部分可不经阳极氧化。

一种外延炉托盘基座-201821905867.1
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摘要：本实用新型提供了一种外延炉托盘基座，属于半导体化学气相沉积设备领域，包括基础圆环、设置在基础圆环上用于固定6英寸晶片衬底的外定位圆环以及可拆卸连接在外定位圆环上的用于固定4英寸晶片衬底的内定位圆环，基础圆环的上端面的内侧设有凸出于基础圆环的上端面的定位环，外定位圆环通过定位环配装在基础圆环的上端面，外定位圆环的厚度大于定位环的高度，内定位圆环配装在外定位圆环的内侧且位于定位环的上端。本实用新型提供的一种外延炉托盘基座，4英寸和6英寸两种尺寸晶片能够通用，即便存在污染物、破损或超过使用寿命时，可以单独清理或更换。

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摘要：本发明涉及一种用于外延生长反应器的衬托器；它大体上包含主体(601)，所述主体(601)具有面(602)，该面(602)包括适合于接纳将经历外延生长的基底的至少一个区(603)；该区(603)具有用于放置所述基底的支托表面(604)或与用于放置所述基底的支托表面(604)相关联；支托表面(604)设置有图案，该图案包括多个弯曲的凹槽伸展部(606)，该多个弯曲凹槽伸展部(606)使它们的中心大体上在与所述支托表面(604)相同的位置(605)中。

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发明人：庞云玲;南建辉;丁建 -专利权人：东泰高科装备科技有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本实用新型涉及一种搁架、承载盘、托盘、缓冲腔、装载腔及基片传输系统，其中，基片传输系统包括缓冲腔、装载腔、第一机械手和第二机械手，缓冲腔中包括的每个第一搁架还用于承放多个承载盘。第一机械手用于将多个基片装载在第一搁架的每个承载盘上，第二机械手用于将多个承载盘从第一搁架上取出并装载在第二搁架的托盘上，装载腔中包括的多个第二搁架用于承放多个上述的托盘。本实用新型的基片传输系统成本低，能够缩短整个工艺时间，加快生产节拍，满足大尺寸、快节拍生产的MOCVD系统的大产能和高效率的需求。

一种应用于半导体材料外延生长的石墨盘-201821961270.9
发明人：刘建庆;文宏;刘雪珍;高熙隆;肖林林;丁杰;杨溢 -专利权人：中山德华芯片技术有限公司
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本实用新型公开了一种应用于半导体材料外延生长的石墨盘，所述石墨盘上形成有若干个带有一平边的衬底凹槽，用于放置衬底，其中，所述衬底凹槽的槽底上设置有一个平行靠近于平边的长条形凸条，所述长条形凸条的高度低于衬底凹槽深度，长度要求不大于衬底凹槽的平边长度，与衬底的平边长度相匹配，放置在衬底凹槽中的衬底的平边与长条形凸条对齐，通过长条形凸条对衬底起到限位固定的作用。本实用新型可极大提高半导体外延制造过程的可控性，提高外延生长过程中的产品良率。

一种应用于晶格失配结构外延生长的石墨盘-201821971864.8
发明人：刘建庆;高熙隆;刘雪珍;丁杰;刘恒昌;宋欣慰 -专利权人：中山德华芯片技术有限公司
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本实用新型公开了一种应用于晶格失配结构外延生长的石墨盘，所述石墨盘上形成有若干个用于放置衬底的衬底凹槽，其中，所述衬底凹槽的槽底形成有按1～20个/cm²密度均匀分布的细孔，且所述细孔竖直贯穿石墨盘底部，利用反应室自上而下的压力差，使衬底两面在外延生长过程中始终保持有压力差，即使衬底发生翘曲，亦能被此压力差下压吸附在石墨盘表面。本实用新型可极大提高半导体外延片均匀性，同时，提高外延生长过程中的温度控制可靠性。

一种改良结构的石墨舟-201821829983.X
发明人：叶石标 -专利权人：浙江艾能聚光伏科技股份有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本实用新型提供了一种改良结构的石墨舟。它解决了现有石墨舟中舟片凸耳会出现断裂，导致石墨舟损坏非常频繁，使用寿命短等技术问题。本改良结构的石墨舟，包括若干石墨舟片一和若干石墨舟片二，石墨舟片一的两端均具有上凸耳，上凸耳和上导电块相连，石墨舟片二的两端均具有下凸耳，下凸耳和下导电块相连，上导电块包括两个上斜角块、两个上隔块、两个上缓冲块和一个上电极块，上隔块下部的外侧具有凸出的上支撑台阶一，上缓冲块下部的两侧具有凸出的上支撑台阶二，下导电块包括四个下隔块、两个舟脚、两个下缓冲块和一个下电极块，舟脚中部的外侧具有下支撑台阶一，下缓冲块下部的两侧具有凸出的下支撑台阶二。本实用新型具有使用寿命短的优点。

一种用于PECVD反应区的伸缩式滚轮传输结构-201910336683.0
发明人：张迎春;张源 -专利权人：北京捷造光电技术有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C16/458
摘要：PECVD设备反应区采用上述伸缩式滚轮结构用于工件载板的传输，所述滚轮转动传入工件；所述托针装置上升，顶起工件脱离滚轮；所述滚轮缩出反应区；所述托针装置下降，将工件下落至下电极上；工件在反应区完成镀膜工艺；所述托针装置上升顶起工件；所述滚轮伸入反应区；所述托针装置下降，将工件下落至所述滚轮上；所述滚轮转动传出已完成镀膜工件；工件传入下一个PECVD腔室重复上述过程进行下一道镀膜工序，工件可以高效率的直线进给。因此，采用上述伸缩式滚轮结构既可以保证工件的可靠传输、加快节拍、提高设备的生产效率并且可以有效的满足PECVD提高效率、增大产能的迫切需求。

片材夹具及沉积设备-201821704778.0
发明人：唐永炳;孟醒;陈波;王陶 -专利权人：深圳先进技术研究院
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C16/458
摘要：本实用新型提供了一种片材夹具及沉积设备，涉及涂层沉积辅助设备技术领域。该片材夹具包括传动单元、送料件和沉积板，送料件位于沉积板的上方，片材装载在沉积板上，传动单元通过带动送料件运动从而带动片材移动；该片材夹具通过带动片材沿沉积板连续移动，使得片材的待沉积部分连续通过热丝对应的有效沉积区域，进而实现片材由待沉积状态向已沉积状态转变，故采用该夹具能够连续沉积片材面积大于沉积设备有效沉积范围的片材，可大大提高沉积效率，缩短生产周期，降低生产成本；该夹具结构简单，操作方便，且不会改变沉积设备原有的结构和部件。本实用新型还提供一种沉积设备，包括炉体，上述片材夹具位于炉体内，片材夹具与炉体可拆卸固定连接。

专利分类

C 化学；冶金

C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

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[实用新型]六边形硅片镀膜设备的石墨载板结构有效

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