[发明专利]共改性LDS添加剂及含该添加剂的聚芳酯组合物在审

专利信息
申请号: 201510410062.4 申请日: 2015-07-11
公开(公告)号: CN104987535A 公开(公告)日: 2015-10-21
发明(设计)人: 刘帅 申请(专利权)人: 刘帅
主分类号: C08K9/10 分类号: C08K9/10;C08K3/22;C08K5/42;C08L67/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 235100 安徽省淮北市濉*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及共改性LDS添加剂,该共改性LDS添加剂包括100重量份的激光敏感化合物和10-30重量份的含羟基改性化合物和含羧基改性化合物,所述含羟基改性化合物部分包覆于所述激光敏感化合物表面,所述激光敏感化合物的化学通式为XY2O4,激光敏感化合物为等轴晶系,X与Y均为金属元素,X与Y来自元素周期表中第ⅢA族、ⅠB族、ⅡB族、ⅥB族、ⅦB族、或Ⅷ族,由该共改性LDS添加剂制备得到的塑料制件上的金属薄膜具有很好的附着力。
搜索关键词: 改性 lds 添加剂 聚芳酯 组合
【主权项】:
共改性LDS添加剂,包括100重量份的激光敏感化合物和10‑30重量份的含羟基改性化合物,所述含羟基改性化合物部分包覆于所述激光敏感化合物表面,所述激光敏感化合物的化学通式为XY2O4,激光敏感化合物为等轴晶系,X与Y均为金属元素,X与Y来自元素周期表中第ⅢA族、ⅠB族、ⅡB族、ⅥB族、ⅦB族、或Ⅷ族;所述含羟基改性化合物的化学结构式如下:所述m为0‑5的整数,X为具有羟基基团的一价基团或羟基,所述X在吡啶环上的位置为磺酸基团的邻位或间位或对位;所述的共改性LDS添加剂还包括含羧基改性化合物,所述含羧基改性化合物的化学结构式如下:所述m为0‑5的整数,X为具有羧基基团的一价基团或羧基,所述X在吡啶环上的位置为磺酸基团的邻位或间位或对位;所述含羧基改性化合物与含羟基改性化合物的质量比为1:0.5‑2。
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