[发明专利]含水分气体的杂质除去装置及杂质除去系统在审
| 申请号： | 201480033210.9 | 申请日： | 2014-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN105263604A | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 内藤俊之 | 申请（专利权）人： | 株式会社IHI |
| 主分类号： | B01D53/50 | 分类号： | B01D53/50;B01D5/00;B01D53/18;B01D53/56;B01D53/62;B01D53/64;B01D53/68;B01D53/77;C01B31/20;B01D53/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李志强;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的杂质除去装置具备：内置填充材料的冷却器(50)，其具有：具有冷却空间(51)的冷却器本体(52)、与冷却空间(51)的内部下侧连通的气体入口(54)、与冷却空间(51)的内部上侧连通的气体出口(55)、配置于冷却空间(51)内部的气体入口(54)与气体出口(55)之间且使来自冷却流体入口(56)的冷却流体(57)在冷却空间(51)内循环后从冷却流体出口(58)导出的冷却管(59)、和以将冷却空间(51)内的气体入口(54)与气体出口(55)之间上下分隔的方式配置的填充材料(61)；在冷却空间(51)内上部具备的喷嘴(63)；通过泵(66)将来自在冷却空间(51)的内底部的废液池(62)上具备的废液出口(64)的废液(D)供给至喷嘴(63)进行喷射的废液循环装置(68)；和在废液(D)中添加碱剂(69)的碱剂添加装置(70)。 | ||
| 搜索关键词： | 水分 气体 杂质 除去 装置 系统 | ||
【主权项】：
含水分气体的杂质除去装置，其中，所述装置具有：内置填充材料的冷却器，所述内置填充材料的冷却器具有：具有冷却空间的冷却器本体、与上述冷却空间的内部下侧连通的气体入口、与上述冷却空间的内部上侧连通的气体出口、配置于上述冷却空间内部的上述气体入口与气体出口之间且使来自冷却流体入口的冷却流体在上述冷却空间内部循环后从冷却流体出口导出的冷却管、和以将上述冷却空间内部的上述气体入口与气体出口之间上下分隔的方式配置的填充材料；在上述冷却空间的内部上侧具备的喷嘴；通过泵将来自在上述冷却空间的内底部的废液池上具备的废液出口的废液供给至上述喷嘴进行喷射的废液循环装置；和在上述废液中添加碱剂的碱剂添加装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社IHI，未经株式会社IHI许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480033210.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
