[实用新型]双旋转掩膜版清洗装置有效

专利信息
申请号: 201320094084.0 申请日: 2013-03-01
公开(公告)号: CN203133472U 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 金普楠 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;B08B3/10
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供双旋转掩膜版清洗装置,包括用于存放清洗液的清洗槽、用于安装掩膜版的掩膜版支架、掩膜版驱动机构、传动杆以及清洗液搅拌机构,所述掩膜版驱动机构的一端与所述传动杆连接,所述掩膜版驱动机构的另一端与所述掩膜版支架连接,所述清洗液搅拌机构设置于所述清洗槽内,所述掩膜版在所述清洗槽中垂向设置,所述掩膜版位于所述清洗槽的左半侧或者右半侧在。本实用新型既能够利用掩膜版清洗液的动能使清洗和反应速度加快以节约清洗时间,又能够避免现有技术中因掩膜版各处线速度的不同而引起图形均一性发生变化,进而,确保后续晶圆的曝光工艺的稳定性,提高产品良率。
搜索关键词: 旋转 掩膜版 清洗 装置
【主权项】:
一种双旋转掩膜版清洗装置,其特征在于,包括用于存放清洗液的清洗槽、用于安装掩膜版的掩膜版支架、掩膜版驱动机构、传动杆以及清洗液搅拌机构,所述掩膜版驱动机构的一端与所述传动杆连接,所述掩膜版驱动机构的另一端与所述掩膜版支架连接,所述清洗液搅拌机构设置于所述清洗槽内,所述掩膜版在所述清洗槽中垂向设置,所述掩膜版位于所述清洗槽的左半侧或者右半侧。
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