[发明专利]用于在光学系统中测量反射模式显示器的绝对光产出量的方法无效
| 申请号： | 01821670.6 | 申请日： | 2001-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN1484758A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | D·J·W·奥斯图恩;C·L·布鲁索内 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在具有折返光径的光学系统中测量偏振调制反射型显示器绝对产出量的方法。其步骤包括在具有第一偏振光束分离器，和反射型显示器的折返光径中测量第一光强度，LR。第二光强度，L0，是通过采用以第二正交转动的偏振光束分离器来代替反射型显示器的非折返光径来测量的。计算了绝对产出量TM此处TM＝LR/L0。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学系统 测量 反射 模式 显示器 绝对 产出 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用在具有折返光径的光学系统中，测量偏振调制的反射型显示器的绝对光产出量的方法，其特征在于，该方法包括的步骤为：a)测量在折返光径中传递的第一光强度，LR，其中由光学系统调制的光束第一偏振分量被第一偏振光束分离器折返，以及光束第二偏振分量被第一偏振光束分离器透射，其中偏振分量中的一个分量被反射出反射型显示器；b)测量在非折返光径中被光学系统传递的第二光强度，LO，在该光径中反射型显示器已被移走，该光径具有第一偏振光束分离器以及具有等效光学性能特性的第二正交转动偏振光束分离器，其中，光束是由PBS中的一个透射而由另一个反射，以及c)计算绝对产出量TH，此处TM＝LR/LO。
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