专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种TAGG磁光晶体的生长方法-CN202310748768.6在审
  • 罗毅;龚瑞;刘照俊;王玉 - 安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司
  • 2023-06-25 - 2023-09-29 - C30B15/08
  • 本发明公开了一种TAGG磁光晶体的生长方法,包括以下步骤:选用原料为纯度高于99.99%的Gd2O3、Tb4O7和Al2O3按照比例进行配制并进行研磨;采用等静压法在200MPa下进行压制,得到紧密的片状混合料;将片状混合料置于烧结炉内以进行烧结得到多晶原料;将多晶原料置于铱金坩埚内,然后将铱金坩埚置于生长炉进行加热,同时通入生长气氛,然后进行下拉使其进行生长;生长结束之后将晶体由生长炉内的铱金坩埚内拉脱,然后将其置于过渡炉内以50℃/h的速率进行降温,减少了晶体后续的加工步骤,降低了后续的加工难度和加工成本,同时,采用下拉的方式极大的降低了生长周期,同时节省了原料的用量,降低了生长成本。
  • 一种tagg晶体生长方法
  • [发明专利]坩埚、晶体及光学元件-CN202210048249.4在审
  • 川崎克己 - TDK株式会社
  • 2022-01-17 - 2022-07-29 - C30B15/08
  • 本发明提供一种可以获得晶体内的添加元素的偏差小的晶体的坩埚、使用该坩埚而获得的晶体以及使用该晶体的光学元件。坩埚具有蓄积成为结晶的原料的熔液的熔液贮存部(24)和控制结晶的形状的喷嘴部(34)。喷嘴部(34)具有使熔液从熔液贮存部(24)流出到喷嘴部(34)的端面(35)的喷嘴孔(36)。喷嘴孔(36)的内周面的表面粗糙度为10μm以下。
  • 坩埚晶体光学元件
  • [发明专利]单晶制造装置和单晶的制造方法-CN202110856124.X在审
  • 舆公祥 - 诺维晶科股份有限公司
  • 2021-07-28 - 2022-02-01 - C30B15/08
  • 提供一种不使用坩埚就能够制造大型的单晶的单晶制造装置和使用了该装置的单晶的制造方法。提供一种单晶制造装置,是从晶种向上方生长单晶的单晶制造装置,具备:隔热空间,其是与装置外的空间隔热的;感应加热用线圈,其设置在隔热空间的外侧;隔热板,其将隔热空间划分为包含用于培育单晶的晶体培育区域的第1空间和其之上的第2空间,在晶体培育区域的上方具有孔;加热体,其设置于第2空间,通过使用了感应加热用线圈的感应加热而发热,对隔热空间内进行加热;以及支撑轴,其用于从下侧支撑晶种且使晶种能在上下方向移动。
  • 制造装置方法
  • [发明专利]一种连续加料微下拉法装置及工艺-CN202010773356.4有效
  • 付善任;张红;夏倩倩 - 上海岚玥新材料科技有限公司
  • 2020-08-04 - 2021-08-20 - C30B15/08
  • 本发明公开了一种新式连续加料微下拉法装置及工艺,包括第一供料机构、第二供料机构、盖板、观察视孔和坩埚,设置第一供料机构和第二供料机构用于实现对坩埚两侧的同时供料,避免单侧供料引起的热场左右温度不对称,从而加快了原料的熔化速度,同时进一步解决了一侧供料易造成原料堆积的问题,通过盖板上沿圆周方向等距离开设有八个进料开口,从而保证原料熔体均匀的从坩埚四周流入坩埚底部,设置观察视孔用于方便操作人员对内部情况进行侧保温层内部情况进行观察,通过设计连续加料装置,合理的坩埚结构,及环形分布多进料开口,并结合科学的供料工艺,使之与传统的微下拉法相互结合,打破原有技术瓶颈,具有极好的市场规模化应用前景。
  • 一种连续加料下拉装置工艺
  • [实用新型]一种基于微下拉法的改进式连续加料装置-CN202021658439.0有效
  • 付善任;张红;夏倩倩 - 上海岚玥新材料科技有限公司
  • 2020-08-11 - 2021-04-06 - C30B15/08
  • 本实用新型公开了一种基于微下拉法的改进式连续加料装置,包括、感应线圈、感应发热体和融化区。该基于微下拉法的改进式连续加料装置,使用时,首先通过开关为温度显示器、重量显示器、红外测温传感器和称重模块提供电源,此时称重模块对集料箱进行称重,并传输到重量显示器上显示,同时对红外测温传感器通过观察孔对籽晶的温度进行检测,并输送到温度显示器上显示,然后操作人员从进料管向集料箱内注入原料,此时集料箱的内原料通过出料管流落到导料管内,原料通过导料管流落到融化区。然后通过开关控制感应线圈开始工作,感应线圈开始促使感应加热体进行发热对坩埚进行加热,使得融化区的原料被融化。
  • 一种基于下拉改进连续加料装置
  • [发明专利]一种单晶光纤的包层制备方法-CN201811179140.4有效
  • 赵衡煜;徐军;侯文涛;施佼佼;罗平;王庆国 - 同济大学
  • 2018-10-10 - 2021-03-26 - C30B15/08
  • 本发明涉及一种单晶光纤的包层制备方法,包括以下步骤:(1)包层的制备:将单晶光纤作为预制棒原料,并在其中心轴线上钻孔,得到包层;(2)预制棒的制备:将外径与包层中心孔径相当的单晶体作为纤芯,插入包层中心孔内,得到预制棒;(3)单晶光纤的制备:将预制棒作为籽晶进行晶体生长,形成具备包层结构与纤芯结构的单晶光纤。与现有技术相比,本发明具有使用原料少,生长速度快,使用小尺寸的贵金属坩埚可降低成本等优点。
  • 一种光纤包层制备方法
  • [发明专利]一种高品质半导体硅材料耗材生长方法-CN201911362831.2有效
  • 李辉;秦英谡;张熠;穆童;郑锴 - 南京晶升能源设备有限公司
  • 2019-12-26 - 2021-01-15 - C30B15/08
  • 本发明公开了一种高品质半导体硅材料耗材生长方法,包括化料、晶体生长、等径生长、冷却的步骤。其中采用在坩埚下方来制造过冷度,避免了坩埚上方热场件上的沉积物散落进坩埚内的可能,避免造成污染,提高晶体品质;整个晶体生长过程中,通过下降坩埚以及控制多段加热器的降温比例,共同营造出一个合理的固液生长界面,有利于结晶时排杂的同时,提高了晶体品质、通过对坩埚下降速度、多段加热器的降温比例及降温速度的调节,保持固液生长界面形状及相对加热器位置不变,保证固液生长界面处的热场环境的稳定,有利于晶体生长,便于工艺控制;整个晶体生长降温过程,采用功率控制方式,较传统温度控制方式更直接、更准确。
  • 一种品质半导体材料耗材生长方法
  • [发明专利]一种晶体生长方法和设备-CN201610056010.6有效
  • 王彪;朱允中;林少鹏 - 中山大学
  • 2016-01-26 - 2018-10-30 - C30B15/08
  • 本发明公开了一种晶体生长方法,包括S1:捕获下晶温度;S2:使坩埚温度达到步骤S1中下晶温度;S3:根据坩埚温度以及籽晶质量变化进行下晶操作;具体的,对盛放晶体材料的坩埚进行加热,使其以一定升温速率恒速升温至目标温度;获取升温过程中的坩埚温度随时间变化所形成的曲线,选取曲线中斜率最大的点对应的温度为下晶温度;使坩埚温度达到下晶温度;缓慢下移籽晶;当籽晶质量发生变化时,继续缓慢下移达到下晶深度;根据籽晶质量变化微调坩埚温度。本发明的晶体生长方法,可利用升温过程中温度随时间变化曲线获取晶体准确下晶温度;并且避免在下晶过程中由保温系统的温度梯度对籽晶造成热冲击,根据籽晶质量变化随时调整适合的温度。
  • 一种晶体生长方法设备

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