[发明专利]防反射膜及防反射处理制品无效
| 申请号： | 99804389.3 | 申请日： | 1999-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1294605A | 公开（公告）日： | 2001-05-09 |
| 发明（设计）人： | 青山高久;蜂须贺仁治;守田滋;荒濑琢也;清水哲男 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G59/20 | 分类号： | C08G59/20;C09D163/00;C08F214/18;C08F8/08;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种防反射膜,其是由含有50%(重量)以上的氟,并且,在1分子中至少结合了2个环氧基的含氟预聚物固化膜所构成的,厚度为0.03～0.5μm。该防反射膜,既可以保持其低折射率,又具有高的膜强度,所以,既可保持防反射效果,又改善了耐擦伤性及耐磨耗性。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 处理 制品 | ||
【主权项】：
1．一种防反射膜，该防反射膜是由含氟预聚物的固化膜构成的防反射膜，其中，该含氟预聚物是含氟率为50％(重量)以上，并且，在1个分子中至少键合了2个环氧基的化合物，固化膜的厚度为0．03～0．5μm。
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C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G59-00 每个分子含有1个以上环氧基的缩聚物；环氧缩聚物与单官能团低分子量化合物反应得到的高分子；每个分子含有1个以上环氧基的化合物使用与该环氧基反应的固化剂或催化剂聚合得到的高分子
C08G59-02 .每分子含有1个以上环氧基的缩聚物
C08G59-14 .用化学后处理改性的缩聚物
C08G59-18 .每个分子含有1个以上环氧基的化合物，使用与环氧基反应的固化剂或催化剂聚合得到的高分子
C08G59-20 ..以使用的环氧化合物为特征
C08G59-40 ..以使用的固化剂为特征
C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G59-00 每个分子含有1个以上环氧基的缩聚物；环氧缩聚物与单官能团低分子量化合物反应得到的高分子；每个分子含有1个以上环氧基的化合物使用与该环氧基反应的固化剂或催化剂聚合得到的高分子
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