[实用新型]隐藏叠纹图案的点矩阵式全像片无效

专利信息
申请号: 99241921.2 申请日: 1999-08-19
公开(公告)号: CN2440214Y 公开(公告)日: 2001-07-25
发明(设计)人: 叶胜利;蓝嘉村;林修弘 申请(专利权)人: 华锦光电科技股份有限公司
主分类号: G02B5/32 分类号: G02B5/32
代理公司: 北京市专利事务所 代理人: 程凤儒
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种隐藏叠纹图案的点矩阵式全像片。是由全像片和判读片叠合而成,全像片上设有由图形解析点组成的全像图案层。点矩阵式全像片的叠纹图案隐藏区域中,叠纹图案本体区和叠纹图案背景区由相同的亮和暗直线交织而成,但二区的直线图案间存在有错位量,且此错位量为光栅点尺寸的数倍大,本实用新型叠纹图案则巧妙地利用伪装图案,而且可以美化此点矩阵式全像图案之外观。并将一维叠纹图案技术推扩至二维叠纹图案技术,增加了资讯隐藏量,提高了叠纹图案的隐藏能力。
搜索关键词: 隐藏 图案 矩阵 像片
【主权项】:
1、一种隐藏叠纹图案的点矩阵式全像片,其特征在于:它是由全像片和判读片叠合而成,判读片位于全像片之上,全像片上设有由图形解析点组成的全像图案层,全像图案层包括有全像效果区域、叠纹图案隐藏区域,该叠纹图案隐藏区域是由叠纹图案本体区、叠纹图案背景区所构成,二区都是由亮直线及暗直线周期性交织,再加上局部取代上述直线交织的并由亮点或暗点构成的伪装性图案而构成,叠纹图案本体区和叠纹图案背景区中的直线交错结构完全相同,二区的直线间存在有图形解析点尺寸整数倍的错位量,而且,其错位方向垂直于直线,该错位量是不等于直线的交织周期,判读片设有识别层,该识别层的图案为透明和不透明长条状直线周期性交织而构成,且全像片上的叠纹图案本体区和叠纹图案背景区的直线交织周期和判读片上的直线交织周期相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华锦光电科技股份有限公司,未经华锦光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99241921.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top