[实用新型]亚微米光刻机光学预对准装置

摘要

本实用新型公开了一种亚微米光刻机的光学预对准装置,该装置包括硅片对准标记的照明系统、成像光路、接收标记信号的四象限探测器以及与之连接的放大电路、A/D转换、计算机和完成预对准的光刻机工件台控制系统,两路对准标记经合像棱镜成像于CCD探测器上,显示器显示该两标记分离视场合像对齐的光栅标记图象,该装置不需要增加专设高精度光学预对准伺服工作台,也不需高精度气轴机械手,只需一般精度的传输机械手。

主权项

1、一种亚微米光刻机的光学预对准装置，由光纤(5)、聚光镜(6)、分光棱镜(9)、物镜(8)和分切板(7)组成硅片对准标记W1和W2的照明系统，分切板(7)、物镜(8)、分光棱镜(9)与反射镜(10)组成对准标记W1和W2的成像光路，通过该成像光路的光被半透半反镜(12)分为反射和透射光，接收反射光的四象限探测器(11)和(18)的输出经放大处理(21)和A/D转换(22)送入计算机(23)，再连接到控制光刻机工件台(2)运动的控制系统(24)，其特征在于：光学预对准装置的预对准伺服工件台由光刻机工件台(2)兼用，省去了高精度气轴机械手；棱镜(15)作为相位光栅标记W1和W2的合像棱镜，与分划板(13)、反射镜(14)、透镜(17)构成标记W1和W2的透射光成像光路，接收该光路图像的CCD探测器(19)，连接到显示标记W1和W2分离视场合像对齐图象的监视器(20)。