[发明专利]排气二次空气通路的形成方法及排气二次空气通路构造无效
| 申请号： | 99118739.3 | 申请日： | 1999-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN1248665A | 公开（公告）日： | 2000-03-29 |
| 发明（设计）人： | 高桥克德;水村荣 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | F01N3/34 | 分类号： | F01N3/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郑中军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明使二次空气供给通路的机械加工容易。在曲轴箱的排气口与设在气缸头盖上的簧片阀室之间形成将它们连通的二次空气供给通路,该二次空气供给通路由气缸头的二次空气供给通路、凸轮座的二次空气供给通路和气缸头盖的二次空气供给通路构成。二次空气供给通路垂直于密封垫圈形成,其前端通过排气二次空气导入部连通,该二次空气导入部在铸造气缸头时用排气口的型芯一体形成。 | ||
| 搜索关键词： | 排气 二次 空气 通路 形成 方法 构造 | ||
【主权项】：
1.排气二次空气通路的形成方法，其特征在于，采用一体地带有排气二次空气导入用突起的开口型芯在铸造的气缸盖坯材上从气缸头上面朝着与上述突起对应的排气二次空气导入部开孔。
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