[发明专利]防污剂,其制法及应用以及由其制备的防污涂层无效

专利信息
申请号: 99108596.5 申请日: 1999-06-25
公开(公告)号: CN1240810A 公开(公告)日: 2000-01-12
发明(设计)人: M·梅赫特尔;M·马格尔;K·H·凯斯勒 申请(专利权)人: 拜尔公司
主分类号: C09D5/16 分类号: C09D5/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘元金,温宏艳
地址: 联邦德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种防污剂,它包含(A)至少1种通式(Ⅰ)的多官能碳硅烷和/或碳硅氧烷和/或其部分缩合产物,其中每个R1独立地是C1~C18烷基和/或C6~C20芳基,X是OH、C1~C4烷氧基、C6~C20芳氧基或C1~C6酸基,n是0~2,m是2~6,p是等于或大于2的整数,以及Q,或者是(i)线型或环状硅烷或硅氧烷,或者是(ii)未取代的烃类或其中至少1个碳原子被O、N、S及P中至少1种取代的烃类,(B)任选地,1种或多种烷氧基硅烷,(C)有机溶剂和/或水,(D)催化剂,(E)无机纳米颗粒,和/或(F)其他添加剂。
搜索关键词: 防污 制法 应用 以及 制备 涂层
【主权项】:
1.一种防污剂,它包含(A)至少1种通式(I)的多官能碳硅烷和/或碳硅氧烷Q[(CH2)mSiR1nX(3-n)]p(I)和/或其部分缩合产物,其中R1是C1~C18烷基和/或C6~C20芳基,其中R1可代表该分子中的相同或不同的基团,X是OH、C1~C4烷氧基、C6~C20芳氧基或C1~C6酸基,n是0~2,m是2~6,p是等于或大于2的整数,以及Q,或者是(i)线型或环状硅烷或硅氧烷,或者是(ii)未取代的烃类或其中至少1个碳原子被O、N、S及P中至少1种取代的烃类,(B)任选地,1种或多种烷氧基硅烷,(C)任选地,有机溶剂和/或水,(D)任选地,催化剂,(E)任选地,无机纳米颗粒,以及(F)任选地,其他添加剂。
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