[发明专利]光读写头无效

专利信息
申请号: 99102312.9 申请日: 1999-02-13
公开(公告)号: CN1122986C 公开(公告)日: 2003-10-01
发明(设计)人: 岛野健;中村滋;大西邦一;井上雅之;福井幸夫 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G11B7/12 分类号: G11B7/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供消除对焦点偏离信号的干扰,消除跟踪误差信号的偏移的光读写头。利用相位在光盘半径方向按周期Dλ/(2P·NA)反相的相位反相衍射光栅(701)使±1级衍射光的波面相位预先按相同的周期偏移λ/2,使子光点在光盘上与主光点位于同一道上。这样,通过按适当的增益比叠加主光点和子光点的焦点偏离误差信号,便可消除对焦点偏离误差信号发生的干扰。通过按适当的增益比扣除主光点和子光点的推拉方式的跟踪误差信号,便可消除其偏移。
搜索关键词: 读写
【主权项】:
1.一种光读写头,其特征在于包括:发出光的半导体激光器,光聚焦光学系统,该系统将从上述半导体激光器发射的光会聚到在半径方向上具有周期性结构的光盘上,以在上述光盘上形成聚焦光点,上述周期性结构具有信息道;用于产生从上述光盘上的聚焦光点发出的反射光的单元,该反射光包括:具有当周期性结构横切所述光盘上的焦点时、强度分布随第1极性变化的第1反射光,和当所述周期性结构横切所述光盘上的聚焦光点时、强度分布随与第1极性相反的第2极性变化的第2反射光,其中,所述第1反射光在所述周期性结构横切所述光盘上的聚焦光点时的强度分布的变化与所述第2反射光在所述周期性结构横切所述光盘上的聚焦光点时的强度分布的变化基本相反;检测第1反射光和第2反射光的光学检测系统,它响应检测到的第1反射光和第2反射光输出检测信号;以及根据由所述光学检测系统输出的检测信号产生第1反射光和第2反射光各自的焦点误差信号和各自的跟踪误差信号的电路,所述电路把第1反射光的焦点误差信号和第2反射光的焦点误差信号相加,以产生光读写头的焦点误差信号,使得由所述第1和第2反射光的强度分布的改变所引起的第1和第2反射光的焦点误差信号的变化相互抵消;以第1增益放大所述第1反射光的跟踪误差信号;以第2增益放大所述第2反射光的跟踪误差信号,第2增益和第1增益的比正比于聚焦光点集中在一个信息道上时所述第1反射光的光总量与第2反射光的光总量的比;以及求取放大后的第1反射光的跟踪误差信号和放大后的第2反射光的跟踪误差信号的差,以获得上述光读写头的跟踪误差信号。
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