[发明专利]包含卤代苯核的活性染料无效
| 申请号: | 98811133.0 | 申请日: | 1998-11-12 |
| 公开(公告)号: | CN1121456C | 公开(公告)日: | 2003-09-17 |
| 发明(设计)人: | W·J·艾伯尼泽;D·格林伍德;M·G·哈钦斯;A·M·赞泼尼;M·A·莱伯约翰斯 | 申请(专利权)人: | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号: | C09B62/78 | 分类号: | C09B62/78;C09B62/002;C09B62/443;C09B62/02;C09D11/00;D06P5/00;//C09B62/04C09B62/20C09B62/465C09B62/503 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
| 地址: | 德国路德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明涉及具有至少一个通过氨基键键接到发色团上的卤代苯核并另外包含第二活性基团的活性染料。 | ||
| 搜索关键词: | 包含 卤代苯核 活性染料 | ||
【主权项】:
1.一种染料,选自:(i)具有结构式(VIII)的染料:Z1-L1-D-Z2?????????(VIII)其中:D为发色团;L1为胺或哌嗪键,具有以下式结构式:-N(R)-?????????????????(VII)1或-N(R)BN(R)-????????????(VII)3其中:R,或每个R独立地为氢原子或C1-4烷基;B是具有至少两个碳原子的烃桥接基团,视需要取代,视需要包含至少一个杂原子且视需要为一种发色团;b为2-6,包括端点在内;Z1为基团:(I)其中:n为1或2;X,或每个X独立地为吸电子基团;且Y为卤素原子;且Z2为:-SO2CH2CH2X1????????(IV)其中X1是可脱除基团;或-SO2(CH2)zCH=CH2????(V)其中Z是0或1;(ii)结构式(XXX)的染料Z1-L1-D[L3]q-[Z3-L4]r[J1]sZ2????(XXX)其中Z3是第三反应基团,选自结构式(I)-(III)的基团,结构式(I)的基团定义如上且式(II)和(III)的基团定义如下:结构式(II):其中:m为1或2;p为0或1;当m为1时,p为1;且当m为2时,p为0;Y1,或每个Y1独立地为卤素原子或视需要取代的吡啶鎓基团;且T为C1-4烷氧基、C1-4硫代烷氧基或N(R1)(R2),其中R1和R2独立地为氢原子、视需要取代的C1-4烷基或视需要取代的芳基;以及结构式(III):其中:x为1、2或3;y为0、1或2;且x+y≤3;Y2,或每个Y2独立地为卤素原子或视需要取代的吡啶鎓基;以及U,或每个U独立地为C1-4烷基、C1-4烷基磺酰基;J1和J2分别独立地是视需要取代的芳基或发色团;L3是连接Z3和J1之一与D的连接基;L4是连接Z3和J1的连接基;q,r和s分别独立地是0或1;以及Z1,Z2和L1分别定义如上;(iii)结构式(XXXI)的染料Z1-L1-D1[L3-Z3(L4-Z4)lL5-D2]kZ2??????(XXXI)其中:D1是第一发色团;??????D2是第二发色团;??????Z3若存在,是第三反应基团,选自定义如上的结构式??????(I)-(III)的基团;??????Z4若存在,是第四反应基团,选自定义如上的结构式??????(I)-(III)的基团;??????L3是连接Z3和D1的连接基;??????L4是连接Z3和Z4的连接基;??????L5是连接D2与Z3和Z4之一的连接基;??????k和l各独立地是0或1;以及??????Z1,Z2和L1各定义如上;(iv)结构式(XXXII)的染料Z1-L1-Z3-L3-D-Z2?????????(XXXII)其中Z3是第三反应基团,选自定义如上的结构式(I)-(III)的基团;以及L3是第三连接基,选自定义如上的(VII)1,(VII)2和(VII)3的基团;以及Z1,Z2和L1各定义如上;(v)结构式(XXXVII)的染料Z1-L1-DN-Z2????????????(XXXVII)其中DN是含包括氮原子在内的杂环基的发色团;L1是结构式(VII)4或(VII)5的连接基,或其中B,R和b各定义如上,键-1-连到发色团DN的杂环氮原子上;Z1和Z2各定义如上;以及(vi)结构式(XXXIX)的染料ZA-DF-L-ZB-L1-Z1???????????(XXXIX)其中:DF是甲发色团;ZA是定义如上的Z2基团;L是定义如上的结构式(VII)1,(VII)2和(VII)3的连接基;Z1和L1各定义如上;以及ZB选自定义如上的结构式(I)-(III)基团。
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